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हॉट प्रेसिंग सिंटरिंग उच्च-प्रदर्शन SIC सिरेमिक तैयार करने के लिए मुख्य विधि है। हॉट प्रेसिंग सिंटरिंग की प्रक्रिया में शामिल हैं: उच्च-शुद्धता वाले एसआईसी पाउडर का चयन करना, उच्च तापमान और उच्च दबाव के तहत दबाना और मोल्डिंग, और फिर सिंटरिंग। इस पद्धति द्वारा तैयार किए गए SIC सिरेमिक में उच्च शुद्धता और उच्च घनत्व के फायदे हैं, और व्यापक रूप से वेफर प्रसंस्करण के लिए डिस्क और गर्मी उपचार उपकरणों को पीसने में उपयोग किया जाता है।

सिलिकॉन कार्बाइड (एसआईसी) के प्रमुख विकास विधियों में पीवीटी, टीएसएसजी, और एचटीसीवीडी शामिल हैं, जिनमें से प्रत्येक अलग -अलग फायदे और चुनौतियां हैं। कार्बन-आधारित थर्मल फील्ड सामग्री जैसे इन्सुलेशन सिस्टम, क्रूसिबल, टीएसी कोटिंग्स, और झरझरा ग्रेफाइट, एसआईसी के सटीक निर्माण और अनुप्रयोग के लिए आवश्यक स्थिरता, थर्मल चालकता और शुद्धता प्रदान करके क्रिस्टल विकास को बढ़ाते हैं।

SIC में उच्च कठोरता, तापीय चालकता और संक्षारण प्रतिरोध है, जो इसे अर्धचालक विनिर्माण के लिए आदर्श बनाता है। CVD SIC कोटिंग रासायनिक वाष्प जमाव के माध्यम से बनाया जाता है, उच्च तापीय चालकता, रासायनिक स्थिरता और एपिटैक्सियल विकास के लिए एक मिलान जाली प्रदान करता है। इसका कम थर्मल विस्तार और उच्च कठोरता स्थायित्व और सटीकता सुनिश्चित करती है, जिससे वेफर वाहक, प्रीहीटिंग रिंग, और बहुत कुछ जैसे अनुप्रयोगों में यह आवश्यक हो जाता है। वेटेक सेमीकंडक्टर विविध उद्योग की जरूरतों के लिए कस्टम एसआईसी कोटिंग्स में माहिर है।