टैंटलम कार्बाइड कोटिंग

वीटेक सेमीकंडक्टर सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए टैंटलम कार्बाइड कोटिंग सामग्री का अग्रणी निर्माता है। हमारे मुख्य उत्पाद प्रस्तावों में सीवीडी टैंटलम कार्बाइड कोटिंग पार्ट्स, सीआईसी क्रिस्टल विकास या सेमीकंडक्टर एपिटैक्सी प्रक्रिया के लिए सिंटेड टीएसी कोटिंग पार्ट्स शामिल हैं। ISO9001 पारित, VeTek सेमीकंडक्टर का गुणवत्ता पर अच्छा नियंत्रण है। वीटेक सेमीकंडक्टर पुनरावृत्त प्रौद्योगिकियों के चल रहे अनुसंधान और विकास के माध्यम से टैंटलम कार्बाइड कोटिंग उद्योग में प्रर्वतक बनने के लिए समर्पित है।

मुख्य उत्पाद हैंTaC लेपित गाइड रिंग, CVD TaC लेपित तीन पंखुड़ी वाली गाइड रिंग, टैंटलम कार्बाइड टीएसी लेपित हाफमून, CVD TaC कोटिंग ग्रहीय SiC एपीटैक्सियल ससेप्टर, टैंटलम कार्बाइड कोटिंग रिंग, टैंटलम कार्बाइड लेपित झरझरा ग्रेफाइट, TaC कोटिंग रोटेशन सुसेप्टर, टैंटलम कार्बाइड रिंग, TaC कोटिंग रोटेशन प्लेट, TaC लेपित वेफर सुसेप्टर, TaC कोटेड डिफ्लेक्टर रिंग, सीवीडी टैसी कोटिंग कवर, TaC लेपित चकआदि, शुद्धता 5ppm से कम है, ग्राहकों की आवश्यकताओं को पूरा कर सकता है।

TaC कोटिंग ग्रेफाइट एक मालिकाना रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) प्रक्रिया द्वारा टैंटलम कार्बाइड की एक महीन परत के साथ उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट सब्सट्रेट की सतह को कोटिंग करके बनाया जाता है। लाभ नीचे चित्र में दिखाया गया है:

Excellent properties of TaC coating graphite

टैंटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग ने 3880°C तक के अपने उच्च पिघलने बिंदु, उत्कृष्ट यांत्रिक शक्ति, कठोरता और थर्मल झटके के प्रतिरोध के कारण ध्यान आकर्षित किया है, जिससे यह उच्च तापमान आवश्यकताओं के साथ यौगिक अर्धचालक एपिटेक्सी प्रक्रियाओं का एक आकर्षक विकल्प बन गया है। जैसे ऐक्सट्रॉन एमओसीवीडी सिस्टम और एलपीई सीआईसी एपिटैक्सी प्रक्रिया। इसका पीवीटी विधि सीआईसी क्रिस्टल विकास प्रक्रिया में भी व्यापक अनुप्रयोग है।

प्रमुख विशेषताऐं:

●तापमान स्थिरता

●अति उच्च शुद्धता

●H2, NH3, SiH4,Si का प्रतिरोध

●थर्मल स्टॉक का प्रतिरोध

●ग्रेफाइट पर मजबूत आसंजन

●अनुरूप कोटिंग कवरेज

● 750 मिमी व्यास तक का आकार (चीन में एकमात्र निर्माता इस आकार तक पहुंचता है)

अनुप्रयोग:

●वेफर वाहक

● आगमनात्मक ताप संग्राहक

● प्रतिरोधक ताप तत्व

●सैटेलाइट डिस्क

●शावर का फव्वारा

●मार्गदर्शक अंगूठी

●एलईडी एपी रिसीवर

●इंजेक्शन नोजल

●मास्किंग रिंग

● हीट शील्ड

सूक्ष्म क्रॉस-सेक्शन पर टैंटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

वीटेक सेमीकंडक्टर टैंटलम कार्बाइड कोटिंग का पैरामीटर:

TaC कोटिंग के भौतिक गुण
घनत्व	14.3 (ग्राम/सेमी³)
विशिष्ट उत्सर्जन	0.3
थर्मल विस्तार गुणांक	6.3 10^-6/के
कठोरता (एचके)	2000 एच.के
प्रतिरोध	1×10^-5ओम*सेमी
तापीय स्थिरता	<2500℃
ग्रेफाइट का आकार बदल जाता है	-10~-20um
कोटिंग की मोटाई	≥20um विशिष्ट मान (35um±10um)

TaC कोटिंग EDX डेटा：

EDX data of TaC coating

TaC कोटिंग क्रिस्टल संरचना डेटा:

तत्व	परमाणु प्रतिशत
	पं. 1	पं. 2	पं. 3	औसत
सी के	52.10	57.41	52.37	53.96
उन्हें	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC कोटिंग चक TaC कोटिंग प्लैनेटरी डिस्क
TaC लेपित प्लेट TaC कोटिंग रोटेशन प्लेट TaC कोटिंग रिसीवर सीवीडी टैसी कोटिंग कवर सीवीडी टीएसी कोटिंग रिंग TaC कोटिंग प्लेट

झरझरा टैंटलम कार्बाइड (TaC) लेपित ग्रेफाइट रिंग

VETEK पोरस TaC कोटेड ग्रेफाइट रिंग एक थर्मल फील्ड घटक है जिसे PVT (भौतिक वाष्प परिवहन) प्रक्रिया के माध्यम से SiC सिंगल क्रिस्टल विकास के लिए इंजीनियर किया गया है। यह उच्च शुद्धता वाले झरझरा ग्रेफाइट से निर्मित होता है और सीवीडी तकनीक का उपयोग करके टैंटलम कार्बाइड (टीएसी) के साथ लेपित होता है। डिज़ाइन उच्च तापमान स्थिरता, रासायनिक लचीलापन और नियंत्रित थर्मल क्षेत्र प्रदर्शन को लक्षित करता है। संदूषण को कम करके और प्रक्रिया की स्थिरता का समर्थन करके, यह घटक प्रतिलिपि प्रस्तुत करने योग्य SiC क्रिस्टल विकास परिणामों में योगदान देता है।

सीवीडी टैंटलम कार्बाइड (TaC) लेपित सुसेप्टर

VETEK CVD TaC कोटेड ससेप्टर एक उच्च शुद्धता वाले आइसोस्टैटिक ग्रेफाइट सब्सट्रेट को घने CVD टैंटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग के साथ जोड़ता है ताकि सेमीकंडक्टर एपिटॉक्सी की मांग के लिए असाधारण थर्मल स्थिरता, संक्षारण प्रतिरोध और कम कण उत्पादन प्रदान किया जा सके। SiC, GaN और AlN एपिटैक्सियल विकास के लिए डिज़ाइन किया गया, यह संदूषण को कम करता है, वेफर तापमान एकरूपता में सुधार करता है, और उच्च तापमान MOCVD और CVD प्रक्रियाओं में घटक सेवा जीवन का विस्तार करता है।

SiC क्रिस्टल ग्रोथ के लिए टैंटलम कार्बाइड (TaC) लेपित छिद्रित ग्रेफाइट

वीटेक सेमीकंडक्टर टैंटलम कार्बाइड कोटेड पोरस ग्रेफाइट सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) क्रिस्टल ग्रोथ तकनीक में नवीनतम नवाचार है। उच्च प्रदर्शन वाले तापीय क्षेत्रों के लिए इंजीनियर की गई यह उन्नत मिश्रित सामग्री पीवीटी (भौतिक वाष्प परिवहन) प्रक्रिया में वाष्प चरण प्रबंधन और दोष नियंत्रण के लिए एक बेहतर समाधान प्रदान करती है।

TaC लेपित ग्रेफाइट वेफर कवर रिंग

VeTek सेमीकंडक्टर चीन में एक पेशेवर TaC कोटेड ग्रेफाइट वेफर कवर रिंग निर्माता और आपूर्तिकर्ता है। हम न केवल उन्नत और टिकाऊ TaC कोटेड ग्रेफाइट वेफर कवर रिंग प्रदान करते हैं, बल्कि अनुकूलित सेवाओं का भी समर्थन करते हैं। हमारे कारखाने से TaC कोटेड ग्रेफाइट वेफर कवर रिंग खरीदने के लिए आपका स्वागत है।

सीवीडी टीएसी लेपित सुसेप्टर

वीटेक सीवीडी टीएसी कोटेड ससेप्टर एक सटीक समाधान है जो विशेष रूप से उच्च प्रदर्शन वाले एमओसीवीडी एपिटैक्सियल विकास के लिए विकसित किया गया है। यह 1600 डिग्री सेल्सियस के अत्यधिक उच्च तापमान वाले वातावरण में उत्कृष्ट तापीय स्थिरता और रासायनिक जड़ता प्रदर्शित करता है। VETEK की कठोर सीवीडी जमाव प्रक्रिया पर भरोसा करते हुए, हम वेफर विकास एकरूपता में सुधार करने, मुख्य घटकों की सेवा जीवन का विस्तार करने और सेमीकंडक्टर उत्पादन के आपके हर बैच के लिए स्थिर और विश्वसनीय प्रदर्शन गारंटी प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध हैं।

सीवीडी टैसी लेपित ग्रेफाइट रिंग

वेटेक्सेमिकॉन द्वारा सीवीडी टैसी कोटेड ग्रेफाइट रिंग को सेमीकंडक्टर वेफर प्रसंस्करण की अत्यधिक मांगों को पूरा करने के लिए इंजीनियर किया गया है। रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) तकनीक का उपयोग करते हुए, उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट सब्सट्रेट्स पर एक घनी और समान टैंटलम कार्बाइड (टीएसी) कोटिंग लागू की जाती है, जो असाधारण कठोरता, पहनने के प्रतिरोध और रासायनिक जड़ता को प्राप्त करती है। सेमीकंडक्टर फैब्रिकेशन में, सीवीडी टीएसी कोटेड ग्रेफाइट रिंग का व्यापक रूप से एमओसीवीडी, नक़्क़ाशी, प्रसार और एपिटैक्सियल ग्रोथ चैंबर्स में उपयोग किया जाता है, जो वेफर कैरियर्स, ससेप्टर्स और शील्डिंग असेंबली के लिए एक प्रमुख संरचनात्मक या सीलिंग घटक के रूप में कार्य करता है। आपके आगे के परामर्श की प्रतीक्षा में हूं।