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वीटेक सेमीकंडक्टर अगली पीढ़ी के अल्ट्रा-वाइड-बैंडगैप सेमीकंडक्टर उपकरणों के लिए उच्च गुणवत्ता वाले एल्यूमीनियम नाइट्राइड (एएलएन) सिंगल-क्रिस्टल वेफर्स और सब्सट्रेट्स की आपूर्ति करता है। लगभग 6.2 eV के अल्ट्रा-वाइड बैंडगैप, उत्कृष्ट तापीय चालकता, असाधारण विद्युत इन्सुलेशन और GaN के साथ उत्कृष्ट जाली और थर्मल-विस्तार मैच के साथ, AlN वेफर्स उच्च-शक्ति आरएफ उपकरणों, उच्च-वोल्टेज पावर इलेक्ट्रॉनिक्स और गहरे-पराबैंगनी (DUV) ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स के लिए आदर्श हैं।

वीटेक सेमीकंडक्टर की उच्च शुद्धता वाली क्वार्ट्ज फर्नेस ट्यूब सेमीकंडक्टर थर्मल प्रोसेसिंग उपकरण के लिए मुख्य प्रक्रिया कक्ष घटक हैं। सेमीकंडक्टर-ग्रेड डीहाइड्रॉक्सिलेटेड फ़्यूज्ड क्वार्ट्ज से निर्मित, ये ट्यूब ऑक्सीकरण भट्टियों, प्रसार भट्टियों, एनीलिंग भट्टियों और एलपीसीवीडी प्रणालियों में सीलबंद प्रतिक्रिया गुहा के रूप में काम करते हैं। वे असाधारण शुद्धता, थर्मल स्थिरता और रासायनिक प्रतिरोध प्रदान करते हैं, समान तापमान क्षेत्र, स्थिर गैस प्रवाह और 4/6/8/12-इंच वेफर प्रसंस्करण के लिए अल्ट्रा-लो संदूषण सुनिश्चित करते हैं।

Aixtron G10-SiC प्लेटफॉर्म के लिए VeTek सेमीकंडक्टर के सॉलिड SiC सहायक उपकरण उच्च शुद्धता वाले, पूरी तरह से घने सिलिकॉन कार्बाइड घटक हैं जो SiC एपिटैक्सियल विकास के थर्मल और रासायनिक वातावरण की मांग के लिए डिज़ाइन किए गए हैं। ये हिस्से उत्कृष्ट उच्च तापमान स्थिरता, रासायनिक प्रतिरोध और अल्ट्रा-लो कण उत्पादन प्रदान करते हैं, जो बिजली उपकरण निर्माण में उपयोग किए जाने वाले उच्च-थ्रूपुट 9×150 मिमी / 6×200 मिमी ग्रहीय रिएक्टर कॉन्फ़िगरेशन का समर्थन करते हैं।

CVD SiC कोटेड ग्रेफाइट पार्ट्स के लिए VETEK प्रोफेशनल क्लीनिंग सर्विस एक विशेष तकनीकी सेवा है जो GaN / AlN / AlGaN एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं में उपयोग किए जाने वाले Aixtron / Veeco MOCVD उपकरण सुसेप्टर्स और ग्रेफाइट घटकों के लिए डिज़ाइन की गई है। हमारी मालिकाना सफाई प्रक्रिया पूरी तरह से सतह स्मृति प्रभाव को समाप्त करती है, रिएक्टर में स्थिर गैस प्रवाह को बहाल करती है, और पूर्ण शून्य मोटाई हानि और शून्य धातु अवशेषों के साथ 100 माइक्रोन सीवीडी सीआईसी कोटिंग की सख्ती से रक्षा करती है।

वेफर कैरियर के लिए VETEK CVD SiC कोटेड ग्रेफाइट ससेप्टर एक उच्च प्रदर्शन वाला वेफर सपोर्ट घटक है जिसे सेमीकंडक्टर एपिटॉक्सी प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है। उत्पाद सब्सट्रेट के रूप में उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट का उपयोग करता है और एक समान सीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) परत के साथ लेपित होता है, जो उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, रासायनिक प्रतिरोध और कण नियंत्रण प्रदान करता है। एक महत्वपूर्ण ग्रेफाइट सुसेप्टर घटक के रूप में, यह सीधे प्रतिक्रिया कक्ष के अंदर वेफर्स का समर्थन करता है और समान तापमान वितरण और स्थिर एपिटैक्सियल विकास स्थितियों को बनाए रखने में मदद करता है।

VeTek सेमीकंडक्टर उच्च-उपज वाले SiC क्रिस्टल ग्रोथ (PVT प्रक्रिया), सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट उत्पादन और उन्नत कार्यात्मक सिरेमिक के लिए विशेष रूप से तैयार प्रीमियम-ग्रेड उच्च शुद्धता सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) पाउडर प्रदान करता है। अल्ट्रा-क्लीन शुद्धिकरण तकनीक के माध्यम से संसाधित, हमारा उच्च शुद्धता वाला SiC कच्चा माल कठोर अर्धचालक विनिर्माण आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए असाधारण रूप से कम ट्रेस धातु स्तर, प्रतिलिपि प्रस्तुत करने योग्य उच्च बनाने की क्रिया प्रदर्शन और अत्यधिक सुसंगत बैच-टू-बैच गुणवत्ता प्रदान करता है।