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हाफमून एक ग्रेफाइट घटक है जिसका उपयोग एलपीई सीआईसी रिएक्टरों के अंदर किया जाता है, जो मुख्य रूप से चैम्बर हॉट जोन के आसपास स्थापित होता है। यद्यपि यह सीधे वेफर से संपर्क नहीं करता है, फिर भी यह एपिटैक्सियल विकास के दौरान गैस प्रवाह स्थिरता और रिएक्टर संचालन में भूमिका निभाता है। उच्च तापमान और प्रतिक्रियाशील प्रक्रिया स्थितियों को संभालने के लिए, घटक को आमतौर पर सीवीडी SiC कोटिंग के साथ संरक्षित किया जाता है, जबकि TaC कोटिंग कुछ अनुप्रयोगों के लिए भी उपलब्ध है। VETEK SiC एपिटैक्सी सिस्टम के लिए ग्रेफाइट फेल्ट इंसुलेशन और अन्य लेपित ग्रेफाइट भागों की भी आपूर्ति करता है।

8-इंच SiC एपी टॉप रिंग सेमीकंडक्टर रिएक्टरों के लिए एक हार्डवेयर हिस्सा है। यह Si/SiC एपिटैक्सी और MOCVD/CVD सिस्टम के अंदर काम करता है। यह रिंग चैम्बर के अंदर की गर्मी को स्थिर करती है। यह गैसों के प्रवाह को भी नियंत्रित करता है। सामग्री उच्च शुद्धता सीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड है। इसमें ग्रेफाइट की अत्यधिक गैसीय समस्या नहीं है। यह उत्पादन के दौरान कण संदूषण को भी कम करता है। हम आपकी पूछताछ का स्वागत करते हैं।

VETEK ने सटीक कार्डिंग और एयर-जेट तकनीक के संयोजन का उपयोग करके हमारे कार्बन फाइबर सॉफ्ट फेल्ट को विकसित किया है। हम संपूर्ण सामग्री में अत्यधिक समान फाइबर संरचना की गारंटी दे सकते हैं। इसे अविश्वसनीय रूप से हल्का रहते हुए औद्योगिक भट्टियों की तीव्र गर्मी का सामना करने के लिए बनाया गया है। ऐसे कम तापीय द्रव्यमान और लचीली बनावट के कारण, इसे स्थापित करना आसान है और भट्ठी के कोनों में अच्छी तरह से फिट बैठता है, जिससे हर चक्र में ऊर्जा दक्षता को अधिकतम करने में मदद मिलती है।

प्रारंभिक स्रोत सामग्री की गुणवत्ता SiC एकल क्रिस्टल के उत्पादन में वेफर उपज को सीमित करने वाला प्राथमिक कारक है। VETEK का 7N उच्च-शुद्धता CVD SiC बल्क पारंपरिक पाउडर के लिए एक उच्च-घनत्व पॉलीक्रिस्टलाइन विकल्प प्रदान करता है, जिसे विशेष रूप से भौतिक वाष्प परिवहन (पीवीटी) के लिए इंजीनियर किया गया है। बल्क सीवीडी फॉर्म का उपयोग करके, हम सामान्य विकास दोषों को खत्म करते हैं और फर्नेस थ्रूपुट में उल्लेखनीय सुधार करते हैं। आपकी पूछताछ की प्रतीक्षा में हूं.

डिफ्यूजन, ऑक्सीडेशन या एलपीसीवीडी जैसे उन्नत निर्माण में, वेफर नाव सिर्फ एक धारक नहीं है - यह थर्मल वातावरण का एक महत्वपूर्ण हिस्सा है। 1000°C से 1400°C तक के तापमान पर, मानक सामग्री अक्सर विरूपण या गैस निकलने के कारण विफल हो जाती है। VETEK का SiC-on-SiC समाधान (घने CVD कोटिंग के साथ उच्च शुद्धता वाला सब्सट्रेट) विशेष रूप से इन उच्च-ताप ​​चर को स्थिर करने के लिए डिज़ाइन किया गया है।

एमओसीवीडी का उच्च तापमान और रासायनिक रूप से प्रतिक्रियाशील वातावरण, प्रतिक्रिया कक्ष की सुरक्षा और प्रक्रिया नियंत्रण की सटीकता सर्वोपरि है। VETEK प्रीमियम अपारदर्शी (दूधिया सफेद) क्वार्ट्ज घटक प्रदान करता है, जो विशेष रूप से आपके अर्धचालक उपकरण के भीतर "क्लीनरूम" और "सटीक द्वार" के रूप में कार्य करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। ये घटक थर्मल विकिरण के प्रबंधन और संदूषण को रोकने के लिए एक लागत प्रभावी लेकिन उच्च प्रदर्शन समाधान प्रदान करते हैं।