एल्ड परमाणु परत जमाव नुस्खा

स्थानिक ALD, स्थानिक रूप से पृथक परमाणु परत जमाव. वेफर विभिन्न स्थितियों के बीच चलता है और प्रत्येक स्थिति में विभिन्न पूर्ववर्तियों के संपर्क में आता है। नीचे दिया गया आंकड़ा पारंपरिक एएलडी और स्थानिक रूप से पृथक एएलडी के बीच तुलना है।

टेम्पोरल एल्ड,अस्थायी रूप से पृथक परमाणु परत जमाव। वेफर तय हो गया है और अग्रदूतों को बारी -बारी से पेश किया जाता है और चैम्बर में हटा दिया जाता है। यह विधि वेफर को अधिक संतुलित वातावरण में संसाधित कर सकती है, जिससे परिणामों में सुधार होता है, जैसे कि महत्वपूर्ण आयामों की सीमा का बेहतर नियंत्रण। नीचे दिया गया आंकड़ा अस्थायी ALD का एक योजनाबद्ध आरेख है।

वाल्व बंद करो, वाल्व बंद करो। में आमतौर पर उपयोग किया जाता है，व्यंजनों, वैक्यूम पंप के लिए वाल्व को बंद करने के लिए उपयोग किया जाता है, या वैक्यूम पंप के लिए स्टॉप वाल्व खोलते हैं।

अग्रदूत, अग्रदूत। दो या अधिक, प्रत्येक में वांछित जमा फिल्म के तत्व होते हैं, वैकल्पिक रूप से सब्सट्रेट सतह पर adsorbed होते हैं, एक समय में केवल एक अग्रदूत के साथ, एक दूसरे से स्वतंत्र। प्रत्येक अग्रदूत एक मोनोलेयर बनाने के लिए सब्सट्रेट सतह को संतृप्त करता है। अग्रदूत को नीचे दिए गए आंकड़े में देखा जा सकता है।

पर्ज, जिसे शुद्धि के रूप में भी जाना जाता है। सामान्य शुद्ध गैस, शुद्ध गैस।परमाणु परत का जमावप्रत्येक अभिकारक के अपघटन और सोखने के माध्यम से एक पतली फिल्म बनाने के लिए एक प्रतिक्रिया कक्ष में दो या अधिक अभिकारकों को क्रमिक रूप से रखकर परमाणु परतों में पतली फिल्मों को जमा करने की एक विधि है। यही है, पहली प्रतिक्रिया गैस को चैम्बर के अंदर रासायनिक रूप से जमा करने के लिए स्पंदित तरीके से आपूर्ति की जाती है, और शारीरिक रूप से बंधुआ अवशिष्ट पहली प्रतिक्रिया गैस को शुद्ध करके हटा दिया जाता है। फिर, दूसरी प्रतिक्रिया गैस भी पल्स और पर्ज प्रक्रिया के माध्यम से भाग में पहली प्रतिक्रिया गैस के साथ एक रासायनिक बंधन बनाती है, जिससे सब्सट्रेट पर वांछित फिल्म जमा होती है। पर्ज को नीचे दिए गए आंकड़े में देखा जा सकता है।

चक्र। परमाणु परत जमाव प्रक्रिया में, प्रत्येक प्रतिक्रिया गैस के एक बार स्पंदित और शुद्ध होने के समय को एक चक्र कहा जाता है।

परमाणु परत एपिटैक्सी.परमाणु परत जमाव के लिए एक और शब्द।

ट्राइमेथाइलमिनियम, टीएमए के रूप में संक्षिप्त, ट्राइमेथिलाल्यूमिनियम। परमाणु परत के बयान में, TMA को अक्सर AL2O3 बनाने के लिए एक अग्रदूत के रूप में उपयोग किया जाता है। आम तौर पर, TMA और H2O AL2O3 बनाते हैं। इसके अलावा, TMA और O3 AL2O3 बनाते हैं। नीचे दिया गया आंकड़ा Al2O3 परमाणु परत जमाव का एक योजनाबद्ध आरेख है, जो TMA और H2O को अग्रदूतों के रूप में उपयोग करता है।

3-एमिनोप्रोपाइलट्राइथॉक्सीसिलेन, जिसे एपीटीईएस, 3-एमिनोप्रोपाइलट्राइमेथॉक्सीसिलेन कहा जाता है। मेंपरमाणु परत जमाव, APTES को अक्सर SiO2 बनाने के अग्रदूत के रूप में उपयोग किया जाता है। आम तौर पर, APTES, O3 और H2O SiO2 बनाते हैं। नीचे दिया गया चित्र APTES का एक योजनाबद्ध आरेख है।