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Mocvd एपिटैक्सियल वेफर प्रदान करता है
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Mocvd एपिटैक्सियल वेफर प्रदान करता है

Vetek सेमीकंडक्टर लंबे समय से अर्धचालक एपिटैक्सियल ग्रोथ इंडस्ट्री में लगे हुए हैं और MOCVD एपिटैक्सियल वेफर सूसोसेप्टर उत्पादों में समृद्ध अनुभव और प्रक्रिया कौशल हैं। आज, वेटेक सेमीकंडक्टर चीन के प्रमुख MOCVD एपिटैक्सियल वेफर सूसोसेप्टर निर्माता और आपूर्तिकर्ता बन गए हैं, और जो वेफर सेंसेसर्स यह प्रदान करता है, उसने GAN एपिटैक्सियल वेफर्स और अन्य उत्पादों के निर्माण में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाई है।

MOCVD एपिटैक्सियल वेफर सूससेप्टर एक उच्च-प्रदर्शन वाले एपिटैक्सियल वेफर सूससेप्टर है जो MOCVD (धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव) उपकरण के लिए डिज़ाइन किया गया है। सूसप्लेर एसजीएल ग्रेफाइट सामग्री से बना है और सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग के साथ लेपित है, जो कि एसआईसी के उत्कृष्ट उच्च तापमान और संक्षारण प्रतिरोध के साथ ग्रेफाइट की उच्च तापीय चालकता को जोड़ती है, और सेमीकॉन्डक्टर्स के एपिटैक्सियल ग्रोथ के दौरान उच्च तापमान, उच्च दबाव और संक्षारक गैस के कठोर कामकाजी वातावरण के लिए उपयुक्त है।


एसजीएल ग्रेफाइट सामग्री में उत्कृष्ट तापीय चालकता होती है, जो यह सुनिश्चित करती है कि एपिटैक्सियल वेफर का तापमान विकास प्रक्रिया के दौरान समान रूप से वितरित किया जाता है और एपिटैक्सियल परत की गुणवत्ता में सुधार करता है। लेपित एसआईसी कोटिंग सूसप्लेर को 1600 से अधिक के उच्च तापमान का सामना करने में सक्षम बनाता है और MOCVD प्रक्रिया में चरम थर्मल वातावरण के अनुकूल होता है। इसके अलावा, एसआईसी कोटिंग उच्च तापमान प्रतिक्रिया गैसों और रासायनिक संक्षारण को प्रभावी ढंग से विरोध कर सकती है, सूसोसेप्टर के सेवा जीवन का विस्तार कर सकती है, और प्रदूषण को कम कर सकती है।


Veteksemi के MOCVD एपिटैक्सियल वेफर सूसोसेप्टर का उपयोग AIXTRON जैसे MOCVD उपकरण आपूर्तिकर्ताओं के सामान के प्रतिस्थापन के रूप में किया जा सकता है।MOCVD Susceptor for Epitaxial Growth


● आकार: ग्राहक की जरूरतों (मानक आकार उपलब्ध) के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है।

● ले जाने की क्षमता: एक बार में कई या 50 से अधिक एपिटैक्सियल वेफर्स ले जा सकते हैं (सूसोसेप्टर आकार के आधार पर)।

● सतह उपचार: एसआईसी कोटिंग, संक्षारण प्रतिरोध, ऑक्सीकरण प्रतिरोध।


यह विभिन्न प्रकार के एपिटैक्सियल वेफर ग्रोथ इक्विपमेंट के लिए एक महत्वपूर्ण गौण है


● अर्धचालक उद्योग: एलईडी, लेजर डायोड, और पावर सेमीकंडक्टर्स जैसे एपिटैक्सियल वेफर्स के विकास के लिए उपयोग किया जाता है।

● ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग: उच्च गुणवत्ता वाले ऑप्टोइलेक्ट्रोनिक उपकरणों के एपिटैक्सियल विकास का समर्थन करता है।

● उच्च अंत सामग्री अनुसंधान और विकास: नए सेमीकंडक्टर्स और ऑप्टोइलेक्ट्रोनिक सामग्रियों की एपिटैक्सियल तैयारी के लिए लागू किया गया।


ग्राहक के MOCVD उपकरण प्रकार और उत्पादन की जरूरतों के आधार पर, Vetek सेमीकंडक्टर अनुकूलित सेवाएं प्रदान करता है, जिसमें सस्पेक्टर आकार, सामग्री, सतह उपचार, आदि शामिल हैं, यह सुनिश्चित करने के लिए कि ग्राहकों को सबसे उपयुक्त समाधान प्रदान किया गया है।


Cvd sic फिल्म क्रिस्टल संरचना

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE


सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण

सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण
संपत्ति
विशिष्ट मूल्य
क्रिस्टल की संरचना
एफसीसी β चरण पॉलीक्रिस्टलाइन, मुख्य रूप से (111) उन्मुख
सिसक कोटिंग घनत्व
3.21 ग्राम/सेमी।
Sic कोटिंग कठोरता
2500 विकर्स कठोरता (500g लोड)
अनाज आकार
2 ~ 10 मिमी
रासायनिक शुद्धता
99.99995%
ताप की गुंजाइश
640 जे · किग्रा-1· K-1
उच्चता तापमान
2700 ℃
आनमनी सार्मथ्य
415 एमपीए आरटी 4-पॉइंट
यंग का मापांक
430 GPA 4pt बेंड, 1300 ℃
ऊष्मीय चालकता
300W · एम-1· K-1
थर्मल विस्तार
4.5 × 10-6K-1

यह अर्धचालक Mocvd एपिटैक्सियल वेफर सूससेप्टर शॉप्स

SiC Coating Graphite substrateMOCVD epitaxial wafer susceptor test

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