मुलायम लगा

1. उत्कृष्ट इन्सुलेशन प्रदर्शन: यह प्रभावी रूप से गर्मी के नुकसान को कम कर सकता है, उपकरण के अंदर एक स्थिर तापमान वातावरण बनाए रख सकता है, और ऊर्जा की खपत को कम कर सकता है।

2. अच्छा उच्च तापमान प्रतिरोध: सॉफ्ट फेल्ट उच्च तापमान की स्थिति में स्थिर भौतिक और रासायनिक गुणों को बनाए रखने में सक्षम है, और फोटोवोल्टिक और अर्धचालक उत्पादन प्रक्रियाओं में उच्च तापमान वातावरण का सामना कर सकता है।

3. कम तापीय चालकता: सटीक तापमान नियंत्रण प्राप्त करने में मदद करता है, प्रक्रिया स्थिरता और उत्पाद की गुणवत्ता में सुधार करता है।

4. उच्च रासायनिक स्थिरता: यह अधिकांश रासायनिक पदार्थों के लिए अच्छा प्रतिरोध है और यह आसानी से या दूषित नहीं है।

5. उच्च शुद्धता: उत्पाद प्रदर्शन और गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए फोटोवोल्टिक और अर्धचालक उत्पादन प्रक्रियाओं पर अशुद्धियों के हस्तक्षेप को कम करता है।

6. अच्छा थर्मल शॉक रेजिस्टेंस: तेजी से तापमान में बदलाव का सामना करने में सक्षम और आसानी से टूटना या क्षति नहीं।

1. एकल क्रिस्टल भट्ठी के थर्मल क्षेत्र घटक: एक Czochralski एकल क्रिस्टल भट्टी में, ग्रेफाइट सॉफ्ट महसूस किया गया था, इन्सुलेशन सामग्री के रूप में उपयोग किया जा सकता है, जो भट्ठी के अंदर तापमान ढाल को प्रभावी ढंग से बनाए रखने के लिए, क्रिस्टल विकास की गुणवत्ता और स्थिरता में सुधार करता है।

2. पॉलीक्रिस्टलाइन इनगोट भट्ठी: एक थर्मल इन्सुलेशन सामग्री के रूप में, यह गर्मी की हानि को कम करता है, थर्मल क्षेत्र वितरण का अनुकूलन करता है, और पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन इंगट्स की गुणवत्ता और उत्पादन दक्षता में सुधार करने में मदद करता है।

3. प्रसार भट्ठी: इन्सुलेशन के लिए उपयोग किया जाता है, भट्ठी के अंदर तापमान एकरूपता सुनिश्चित करता है, और प्रसार प्रक्रियाओं की सटीकता और स्थिरता में सुधार करता है।

4. एपिटैक्सियल भट्टी: अर्धचालक एपिटैक्सियल परतों की गुणवत्ता पर तापमान में उतार -चढ़ाव के प्रभाव को कम करते हुए, एपिटैक्सियल ग्रोथ प्रक्रिया के लिए एक स्थिर थर्मल वातावरण प्रदान करता है।

5. अर्धचालक पैकेजिंग: कुछ उच्च अंत अर्धचालक पैकेजिंग प्रक्रियाओं में, यह थर्मल और यांत्रिक तनाव क्षति से चिप्स की रक्षा करते हुए, इन्सुलेशन, बफरिंग और समर्थन में एक भूमिका निभाता है।

6. फोटोवोल्टिक सेल विनिर्माण उपकरण: जैसे कि प्लाज्मा एन्हांस्ड रासायनिक वाष्प जमाव (PECVD) उपकरण, उपकरण के अंदर तापमान स्थिरता बनाए रखने और पतली फिल्म जमाव की गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए उपयोग किया जाता है।

वेटेक सेमीकंडक्टर ग्रेफाइट नरम सहित शामिल:

रेयान-आधारित कार्बन/ग्रेफाइट लगा इसमें उच्च तापमान प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, उच्च शुद्धता, कम राख सामग्री और कोई तेल प्रदूषण जैसे गुण हैं। छोटे तार व्यास, मजबूत इन्सुलेशन प्रदर्शन। मुख्य रूप से एकल क्रिस्टल विकास भट्टियों और उच्च अंत उच्च तापमान वाले उपकरणों में उपयोग किया जाता है।

पिच-आधारित कार्बन/ग्रेफाइट लगा जर्मन मूल रेशम बुनाई का उपयोग करते हुए, इसका संक्षारण प्रतिरोध, ऑक्सीकरण प्रतिरोध और शुद्धता रेयान-आधारित सामग्रियों से बेहतर है, और इसमें बेहतर इन्सुलेशन प्रदर्शन है। मुख्य रूप से फोटोवोल्टिक सिंगल क्रिस्टल उद्योग में उच्च प्रदर्शन वाले उपकरणों में उपयोग किया जाता है।

पैन कार्बन/ग्रेफाइट लगा इसमें उच्च तापमान प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, उच्च शुद्धता, कम राख सामग्री, प्रकाश और नरम बनावट, और उच्च आकार प्रतिधारण जैसे गुण हैं। वैक्यूम या अक्रिय गैस द्वारा संरक्षित उच्च तापमान वाले वातावरण में, इसका इन्सुलेशन प्रदर्शन बेहतर और स्थिर है। व्यापक रूप से उच्च तापमान वाले उपकरणों जैसे कि एकल क्रिस्टल ग्रोथ भट्टियों, पॉलीक्रिस्टलाइन इंगोट भट्टियों और मध्यम आवृत्ति इंडक्शन भट्टियों में उपयोग किया जाता है।

पूर्व ऑक्सीकृत ग्रेफाइट महसूस किया उच्च गुणवत्ता वाले कच्चे माल की सख्त स्क्रीनिंग और उत्पादन प्रक्रियाओं के निरंतर सुधार के माध्यम से, रेयान-आधारित ग्रेफाइट के समान इन्सुलेशन प्रदर्शन वाला एक उत्पाद और पैन आधारित ग्रेफाइट की तुलना में बेहतर जीवनकाल प्राप्त किया गया है; इसमें अच्छे इन्सुलेशन, कटाव प्रतिरोध, उच्च शुद्धता, कम राख सामग्री, उच्च शक्ति और लंबी सेवा जीवन की विशेषताएं हैं, और एक अल्ट्रा-हाई लागत प्रदर्शन अनुपात है। यह व्यापक रूप से एकल क्रिस्टल विकास भट्टियों, पॉलीक्रिस्टलाइन इंगोट भट्टियों, और मध्यम-आवृत्ति प्रेरण उच्च-तापमान भट्टियों, और ग्रेफाइट प्रतिरोध उच्च तापमान भट्टियों में उपयोग किया जाता है। "

बैटरी महसूस हुई उच्च गुणवत्ता वाले जर्मन-आयातित पैन-आधारित फाइबर से निर्मित, यह फ्लैटनेस, पोरसिटी, घनत्व, विशिष्ट सतह क्षेत्र और चालकता जैसे मापदंडों में असाधारण प्रदर्शन का दावा करता है। यह मुख्य रूप से ईंधन कोशिकाओं और प्रवाह बैटरी जैसे अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है।