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Cvd sic कोटिंग हीटिंग तत्व
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Cvd sic कोटिंग हीटिंग तत्व

CVD SIC कोटिंग हीटिंग तत्व PVD भट्ठी (वाष्पीकरण जमाव) में हीटिंग सामग्री में एक मुख्य भूमिका निभाता है। वेटेक सेमीकंडक्टर चीन में एक प्रमुख सीवीडी एसआईसी कोटेड हीटिंग तत्व निर्माता है। हमारे पास उन्नत सीवीडी कोटिंग क्षमताएं हैं और आपको अनुकूलित सीवीडी एसआईसी कोटिंग उत्पाद प्रदान कर सकते हैं। वेटेक सेमीकंडक्टर एसआईसी कोटेड हीटिंग तत्व में आपका साथी बनने के लिए तत्पर है।

सीवीडी एसआईसी कोटिंग हीटिंग तत्व मुख्य रूप से पीवीडी (भौतिक वाष्प जमाव) उपकरणों में उपयोग किया जाता है। वाष्पीकरण प्रक्रिया में, वाष्पीकरण या स्पटरिंग को प्राप्त करने के लिए सामग्री को गर्म किया जाता है, और अंत में सब्सट्रेट पर एक समान पतली फिल्म बनती है।


Ⅰ।विशिष्ट अनुप्रयोग

पतली फिल्म जमाव: सीवीडी एसआईसी कोटिंग हीटिंग तत्व का उपयोग वाष्पीकरण स्रोत या स्पटरिंग स्रोत में किया जाता है। हीटिंग करके, तत्व सामग्री को उच्च तापमान पर जमा करने के लिए गर्म करता है, ताकि इसके परमाणुओं या अणुओं को सामग्री की सतह से अलग किया जाए, जिससे वाष्प या प्लाज्मा बन सकें। हमारे हीटिंग तत्व आधारित एसआईसी कोटिंग भी पीवीडी प्रक्रिया में एक सामग्री स्रोत के रूप में उपयोग के लिए एक वैक्यूम वातावरण में उन्हें वाष्पित करने या उकसाने के लिए कुछ धातु या सिरेमिक सामग्री को सीधे गर्म कर सकती है। क्योंकि संरचना में संकेंद्रित खांचे हैं, यह हीटिंग की एकरूपता सुनिश्चित करने के लिए वर्तमान पथ और गर्मी वितरण को बेहतर तरीके से नियंत्रित कर सकता है।

Schematic diagram of the evaporation PVD process

वाष्पीकरण पीवीडी प्रक्रिया का योजनाबद्ध आरेख

Ⅱ।काम के सिद्धांत

प्रतिरोधक हीटिंग, जब वर्तमान एसआईसी कोटेड हीटर के प्रतिरोध पथ से होकर गुजरता है, तो जूल गर्मी उत्पन्न होती है, जिससे हीटिंग के प्रभाव को प्राप्त होता है। गाढ़ा संरचना वर्तमान को समान रूप से वितरित करने की अनुमति देती है। एक तापमान नियंत्रण उपकरण आमतौर पर तापमान की निगरानी और समायोजित करने के लिए तत्व से जुड़ा होता है।


Ⅲ।सामग्री और संरचनात्मक डिजाइन

सीवीडी एसआईसी कोटिंग हीटिंग तत्व उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट और एसआईसी कोटिंग से बना है जो उच्च तापमान वातावरण से निपटने के लिए है। उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट को व्यापक रूप से एक थर्मल क्षेत्र सामग्री के रूप में उपयोग किया गया है। कोटिंग की एक परत को सीवीडी विधि द्वारा ग्रेफाइट सतह पर लागू किया जाता है, इसकी उच्च तापमान स्थिरता, संक्षारण प्रतिरोध, थर्मल दक्षता और अन्य विशेषताओं को और बेहतर बनाया जाता है।


CVD SiC coating CVD SiC coating Heating Element


गाढ़ा खांचे का डिजाइन वर्तमान को डिस्क सतह पर एक समान लूप बनाने की अनुमति देता है। यह एक समान गर्मी वितरण को प्राप्त करता है, कुछ क्षेत्रों में एकाग्रता के कारण होने वाले स्थानीय ओवरहीटिंग से बचता है, वर्तमान एकाग्रता के कारण अतिरिक्त गर्मी हानि को कम करता है, और इस प्रकार हीटिंग दक्षता में सुधार करता है।


CVD SIC कोटिंग हीटिंग तत्व में दो पैर और एक शरीर होता है। प्रत्येक पैर में एक धागा होता है जो बिजली की आपूर्ति से जुड़ता है। वेटेक सेमीकंडक्टर एक-टुकड़ा भागों या विभाजित भागों को बना सकता है, अर्थात, पैर और शरीर को अलग से बनाया जाता है और फिर इकट्ठा किया जाता है। कोई फर्क नहीं पड़ता कि आपके पास सीवीडी एसआईसी कोटेड हीटर के लिए क्या आवश्यकताएं हैं, कृपया हमसे परामर्श करें। Veteksemi उन उत्पादों को प्रदान कर सकता है जिनकी आपको आवश्यकता है।


सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण :


सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण
संपत्ति
विशिष्ट मूल्य
क्रिस्टल की संरचना
एफसीसी β चरण पॉलीक्रिस्टलाइन, मुख्य रूप से (111) उन्मुख
घनत्व
3.21 ग्राम/सेमी।
कठोरता
2500 विकर्स कठोरता (500g लोड)
अनाज आकार
2 ~ 10 मिमी
रासायनिक शुद्धता
99.99995%
ताप की गुंजाइश
640 जे · किग्रा-1· K-1
उच्चता तापमान
2700 ℃
आनमनी सार्मथ्य
415 एमपीए आरटी 4-पॉइंट
यंग का मापांक
430 GPA 4pt बेंड, 1300 ℃
ऊष्मीय चालकता
300W · एम-1· K-1
थर्मल विस्तार
4.5 × 10-6K-1

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