उत्पादों

सिलिकॉन कार्बाइड एपिटैक्सियल वृद्धि की मुख्य प्रक्रिया में, वेटेक्सेमिकॉन समझता है कि रिसेप्टर प्रदर्शन सीधे एपिटैक्सियल परत की गुणवत्ता और उत्पादन दक्षता निर्धारित करता है। हमारे उच्च शुद्धता वाले ईपीआई रिसेप्टर्स, विशेष रूप से SiC क्षेत्र के लिए डिज़ाइन किए गए, एक विशेष ग्रेफाइट सब्सट्रेट और घने CVD SiC कोटिंग का उपयोग करते हैं। अपनी बेहतर थर्मल स्थिरता, उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और बेहद कम कण उत्पादन दर के साथ, वे कठोर उच्च तापमान प्रक्रिया वातावरण में भी ग्राहकों के लिए अद्वितीय मोटाई और डोपिंग एकरूपता सुनिश्चित करते हैं। वेटेक्सेमिकॉन को चुनने का अर्थ है अपनी उन्नत सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रियाओं के लिए विश्वसनीयता और प्रदर्शन की आधारशिला चुनना।

एएसएम के लिए वेटेक्सेमिकॉन SiC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टर सेमीकंडक्टर एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं में एक मुख्य वाहक घटक है। यह उत्पाद उच्च तापमान और संक्षारक प्रक्रिया वातावरण में बेहतर प्रदर्शन और अल्ट्रा-लंबे जीवनकाल को सुनिश्चित करने के लिए हमारी स्वामित्व वाली पायरोलाइटिक सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग तकनीक और सटीक मशीनिंग प्रक्रियाओं का उपयोग करता है। हम सब्सट्रेट शुद्धता, थर्मल स्थिरता और स्थिरता पर एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं की कठोर आवश्यकताओं को गहराई से समझते हैं, और ग्राहकों को स्थिर, विश्वसनीय समाधान प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध हैं जो समग्र उपकरण प्रदर्शन को बढ़ाते हैं।

वेटेक्सेमिकॉन सेमीकंडक्टर-ग्रेड क्वार्ट्ज क्रूसिबल्स सीज़ोक्राल्स्की सिंगल क्रिस्टल विकास प्रक्रिया में प्रमुख उपभोग्य वस्तुएं हैं। हमारे मुख्य फोकस के रूप में अत्यधिक शुद्धता और बेहतर थर्मल स्थिरता के साथ, हम ग्राहकों को उच्च गुणवत्ता वाले उत्पाद प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध हैं जो उच्च तापमान और उच्च दबाव वाले वातावरण में स्थिर प्रदर्शन और क्रिस्टलीकरण के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदर्शित करते हैं। यह स्रोत से क्रिस्टल छड़ों की गुणवत्ता सुनिश्चित करता है, जिससे सेमीकंडक्टर सिलिकॉन वेफर विनिर्माण को उच्च पैदावार और बेहतर लागत-प्रभावशीलता प्राप्त करने में मदद मिलती है।

वेटेक्सेमिकॉन फोकस रिंग विशेष रूप से सेमीकंडक्टर नक़्क़ाशी उपकरण, विशेष रूप से SiC नक़्क़ाशी अनुप्रयोगों की मांग के लिए डिज़ाइन की गई है। इलेक्ट्रोस्टैटिक चक (ईएससी) के चारों ओर, वेफर के करीब स्थापित, इसका प्राथमिक कार्य प्रतिक्रिया कक्ष के भीतर विद्युत चुम्बकीय क्षेत्र वितरण को अनुकूलित करना है, जिससे संपूर्ण वेफर सतह पर एक समान और केंद्रित प्लाज्मा क्रिया सुनिश्चित होती है। एक उच्च-प्रदर्शन फोकस रिंग ईच दर एकरूपता में काफी सुधार करती है और किनारे के प्रभावों को कम करती है, जिससे सीधे उत्पाद की उपज और उत्पादन दक्षता में वृद्धि होती है।

एलईडी नक़्क़ाशी के लिए वेटेक्सेमिकॉन सिलिकॉन कार्बाइड कैरियर प्लेट, विशेष रूप से एलईडी चिप निर्माण के लिए डिज़ाइन की गई, नक़्क़ाशी प्रक्रिया में एक मुख्य उपभोज्य है। सटीक-सिन्डर्ड उच्च-शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड से निर्मित, यह असाधारण रासायनिक प्रतिरोध और उच्च तापमान आयामी स्थिरता प्रदान करता है, जो प्रभावी रूप से मजबूत एसिड, बेस और प्लाज्मा से जंग का विरोध करता है। इसके कम संदूषण गुण एलईडी एपिटैक्सियल वेफर्स के लिए उच्च पैदावार सुनिश्चित करते हैं, जबकि इसका स्थायित्व, पारंपरिक सामग्रियों से कहीं अधिक, ग्राहकों को समग्र परिचालन लागत को कम करने में मदद करता है, जिससे यह नक़्क़ाशी प्रक्रिया दक्षता और स्थिरता में सुधार के लिए एक विश्वसनीय विकल्प बन जाता है।

पीईसीवीडी के लिए वेटेक्सेमिकॉन ग्रेफाइट नाव उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट से सटीक रूप से तैयार की गई है और विशेष रूप से प्लाज्मा-संवर्धित रासायनिक वाष्प जमाव प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन की गई है। अर्धचालक थर्मल क्षेत्र सामग्री और सटीक मशीनिंग क्षमताओं की हमारी गहरी समझ का लाभ उठाते हुए, हम असाधारण थर्मल स्थिरता, उत्कृष्ट चालकता और लंबी सेवा जीवन के साथ ग्रेफाइट नौकाएं प्रदान करते हैं। इन नौकाओं को मांग वाले पीईसीवीडी प्रक्रिया वातावरण में प्रत्येक वेफर पर अत्यधिक समान पतली फिल्म जमाव सुनिश्चित करने, प्रक्रिया उपज और उत्पादकता में सुधार करने के लिए डिज़ाइन किया गया है।