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Aixtron G10 सॉलिड SiC ग्रहीय रिएक्टर घटक

Aixtron G10 सॉलिड SiC ग्रहीय रिएक्टर घटक

Aixtron G10-SiC प्लेटफॉर्म के लिए VeTek सेमीकंडक्टर के सॉलिड SiC सहायक उपकरण उच्च शुद्धता वाले, पूरी तरह से घने सिलिकॉन कार्बाइड घटक हैं जो SiC एपिटैक्सियल विकास के थर्मल और रासायनिक वातावरण की मांग के लिए डिज़ाइन किए गए हैं। ये हिस्से उत्कृष्ट उच्च तापमान स्थिरता, रासायनिक प्रतिरोध और अल्ट्रा-लो कण उत्पादन प्रदान करते हैं, जो बिजली उपकरण निर्माण में उपयोग किए जाने वाले उच्च-थ्रूपुट 9×150 मिमी / 6×200 मिमी ग्रहीय रिएक्टर कॉन्फ़िगरेशन का समर्थन करते हैं।
सीवीडी एसआईसी कोटिंग ग्रेफाइट पार्ट्स सफाई सेवा

सीवीडी एसआईसी कोटिंग ग्रेफाइट पार्ट्स सफाई सेवा

CVD SiC कोटेड ग्रेफाइट पार्ट्स के लिए VETEK प्रोफेशनल क्लीनिंग सर्विस एक विशेष तकनीकी सेवा है जो GaN / AlN / AlGaN एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं में उपयोग किए जाने वाले Aixtron / Veeco MOCVD उपकरण सुसेप्टर्स और ग्रेफाइट घटकों के लिए डिज़ाइन की गई है। हमारी मालिकाना सफाई प्रक्रिया पूरी तरह से सतह स्मृति प्रभाव को समाप्त करती है, रिएक्टर में स्थिर गैस प्रवाह को बहाल करती है, और पूर्ण शून्य मोटाई हानि और शून्य धातु अवशेषों के साथ 100 माइक्रोन सीवीडी सीआईसी कोटिंग की सख्ती से रक्षा करती है।
वेफर कैरियर के लिए सीवीडी सीआईसी लेपित ग्रेफाइट सुसेप्टर

वेफर कैरियर के लिए सीवीडी सीआईसी लेपित ग्रेफाइट सुसेप्टर

वेफर कैरियर के लिए VETEK CVD SiC कोटेड ग्रेफाइट ससेप्टर एक उच्च प्रदर्शन वाला वेफर सपोर्ट घटक है जिसे सेमीकंडक्टर एपिटॉक्सी प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है। उत्पाद सब्सट्रेट के रूप में उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट का उपयोग करता है और एक समान सीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) परत के साथ लेपित होता है, जो उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, रासायनिक प्रतिरोध और कण नियंत्रण प्रदान करता है। एक महत्वपूर्ण ग्रेफाइट सुसेप्टर घटक के रूप में, यह सीधे प्रतिक्रिया कक्ष के अंदर वेफर्स का समर्थन करता है और समान तापमान वितरण और स्थिर एपिटैक्सियल विकास स्थितियों को बनाए रखने में मदद करता है।
SiC क्रिस्टल विकास के लिए उच्च शुद्धता SiC पाउडर

SiC क्रिस्टल विकास के लिए उच्च शुद्धता SiC पाउडर

VeTek सेमीकंडक्टर उच्च-उपज वाले SiC क्रिस्टल ग्रोथ (PVT प्रक्रिया), सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट उत्पादन और उन्नत कार्यात्मक सिरेमिक के लिए विशेष रूप से तैयार प्रीमियम-ग्रेड उच्च शुद्धता सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) पाउडर प्रदान करता है। अल्ट्रा-क्लीन शुद्धिकरण तकनीक के माध्यम से संसाधित, हमारा उच्च शुद्धता वाला SiC कच्चा माल कठोर अर्धचालक विनिर्माण आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए असाधारण रूप से कम ट्रेस धातु स्तर, प्रतिलिपि प्रस्तुत करने योग्य उच्च बनाने की क्रिया प्रदर्शन और अत्यधिक सुसंगत बैच-टू-बैच गुणवत्ता प्रदान करता है।
TEL के लिए उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज वेफर नाव

TEL के लिए उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज वेफर नाव

TEL सेमीकंडक्टर उपकरण के लिए VETEK हाई प्योरिटी क्वार्ट्ज वेफर बोट सेमीकंडक्टर-ग्रेड क्वार्ट्ज सामग्री से निर्मित है और प्रसार, ऑक्सीकरण, एनीलिंग और सीवीडी जैसी उच्च तापमान प्रक्रियाओं में वेफर हैंडलिंग के लिए डिज़ाइन किया गया है। उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, रासायनिक प्रतिरोध और कम संदूषण विशेषताओं के साथ, यह अर्धचालक विनिर्माण अनुप्रयोगों के लिए विश्वसनीय वेफर समर्थन प्रदान करता है।
झरझरा टैंटलम कार्बाइड (TaC) लेपित ग्रेफाइट रिंग

झरझरा टैंटलम कार्बाइड (TaC) लेपित ग्रेफाइट रिंग

VETEK पोरस TaC कोटेड ग्रेफाइट रिंग एक थर्मल फील्ड घटक है जिसे PVT (भौतिक वाष्प परिवहन) प्रक्रिया के माध्यम से SiC सिंगल क्रिस्टल विकास के लिए इंजीनियर किया गया है। यह उच्च शुद्धता वाले झरझरा ग्रेफाइट से निर्मित होता है और सीवीडी तकनीक का उपयोग करके टैंटलम कार्बाइड (टीएसी) के साथ लेपित होता है। डिज़ाइन उच्च तापमान स्थिरता, रासायनिक लचीलापन और नियंत्रित थर्मल क्षेत्र प्रदर्शन को लक्षित करता है। संदूषण को कम करके और प्रक्रिया की स्थिरता का समर्थन करके, यह घटक प्रतिलिपि प्रस्तुत करने योग्य SiC क्रिस्टल विकास परिणामों में योगदान देता है।
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