क्या आप MOCVD Soucceptor के बारे में जानते हैं?

धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (MOCVD) प्रक्रिया में, Soceptor एक प्रमुख घटक है जो वेफर का समर्थन करने और जमाव प्रक्रिया की एकरूपता और सटीक नियंत्रण सुनिश्चित करने के लिए जिम्मेदार है। इसकी सामग्री चयन और उत्पाद विशेषताएं सीधे एपिटैक्सियल प्रक्रिया की स्थिरता और उत्पाद की गुणवत्ता को प्रभावित करती हैं।

MOCVD समर्थन(धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव) अर्धचालक विनिर्माण में एक प्रमुख प्रक्रिया घटक है। इसका उपयोग मुख्य रूप से MOCVD (धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव) प्रक्रिया में किया जाता है ताकि पतली फिल्म जमाव के लिए वेफर को समर्थन और गर्म किया जा सके। Souptor का डिजाइन और सामग्री चयन अंतिम उत्पाद की एकरूपता, दक्षता और गुणवत्ता के लिए महत्वपूर्ण है।

उत्पाद प्रकार और सामग्री चयन:

MOCVD सूस्विनर के डिजाइन और सामग्री चयन विविध हैं, आमतौर पर प्रक्रिया आवश्यकताओं और प्रतिक्रिया स्थितियों द्वारा निर्धारित किए जाते हैं।निम्नलिखित सामान्य उत्पाद प्रकार और उनकी सामग्री हैं:

सिसक कोटेड सूस्विक(सिलिकॉन कार्बाइड कोटेड सूसोसेक्टर):

विवरण: SIC कोटिंग के साथ सूसो, सब्सट्रेट के रूप में ग्रेफाइट या अन्य उच्च तापमान सामग्री के साथ, और सतह पर CVD SIC कोटिंग (CVD SIC कोटिंग) अपने पहनने के प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध में सुधार करने के लिए।

अनुप्रयोग: उच्च तापमान और अत्यधिक संक्षारक गैस वातावरण में MOCVD प्रक्रियाओं में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है, विशेष रूप से सिलिकॉन एपिटैक्सी और यौगिक अर्धचालक बयान में।

टीएसी कोटेड सबर्स:

विवरण: TAC कोटिंग (CVD TAC कोटिंग) के साथ Soucceptor के रूप में मुख्य सामग्री में उच्च कठोरता और रासायनिक स्थिरता है और यह अत्यंत संक्षारक वातावरण में उपयोग के लिए उपयुक्त है।

अनुप्रयोग: MOCVD प्रक्रियाओं में उपयोग किया जाता है जिसमें उच्च संक्षारण प्रतिरोध और यांत्रिक शक्ति की आवश्यकता होती है, जैसे कि गैलियम नाइट्राइड (GAN) और गैलियम आर्सेनाइड (GAAS) का जमाव।

MOCVD के लिए सिलिकॉन कार्बाइड लेपित ग्रेफाइट सूस्विनर:

विवरण: सब्सट्रेट ग्रेफाइट है, और सतह को उच्च तापमान पर स्थिरता और लंबे जीवन को सुनिश्चित करने के लिए सीवीडी एसआईसी कोटिंग की एक परत के साथ कवर किया गया है।

आवेदन: उच्च गुणवत्ता वाले यौगिक अर्धचालक सामग्री का निर्माण करने के लिए Aixtron MoCVD रिएक्टरों जैसे उपकरणों में उपयोग के लिए उपयुक्त।

ईपीआई समर्थन (एपिटैक्सी समर्थक):

विवरण: सूस्विनर विशेष रूप से एपिटैक्सियल ग्रोथ प्रक्रिया के लिए डिज़ाइन किया गया है, आमतौर पर इसकी थर्मल चालकता और स्थायित्व को बढ़ाने के लिए एसआईसी कोटिंग या टीएसी कोटिंग के साथ।

अनुप्रयोग: सिलिकॉन एपिटैक्सी और यौगिक सेमीकंडक्टर एपिटैक्सी में, इसका उपयोग एक समान हीटिंग और वेफर्स के बयान को सुनिश्चित करने के लिए किया जाता है।

सेमीकंडक्टर प्रोसेसिंग में MOCVD के लिए सूसोसेक्टर की मुख्य भूमिका:

वेफर सपोर्ट और यूनिफ़ॉर्म हीटिंग:

फ़ंक्शन: Soucceptor का उपयोग MOCVD रिएक्टरों में वेफर्स का समर्थन करने के लिए किया जाता है और एक समान फिल्म बयान सुनिश्चित करने के लिए इंडक्शन हीटिंग या अन्य तरीकों के माध्यम से समान गर्मी वितरण प्रदान किया जाता है।

गर्मी चालन और स्थिरता:

फ़ंक्शन: थर्मल चालकता और थर्मल स्टेबिलिटी ऑफ़ सूसोसेप्टर सामग्री महत्वपूर्ण हैं। एसआईसी कोटेड सूसोसेप्टर और टीएसी लेपित सूसप्लेर असमान तापमान के कारण होने वाली फिल्म दोषों से बचने के लिए, उच्च तापमान चालकता और उच्च तापमान प्रतिरोध के कारण उच्च तापमान प्रक्रियाओं में स्थिरता बनाए रख सकते हैं।

संक्षारण प्रतिरोध और लंबा जीवन:

फ़ंक्शन: MOCVD प्रक्रिया में, Souscector को विभिन्न रासायनिक अग्रदूत गैसों के संपर्क में लाया जाता है। एसआईसी कोटिंग और टीएसी कोटिंग उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करती है, सामग्री की सतह और प्रतिक्रिया गैस के बीच बातचीत को कम करती है, और सूसोसेक के सेवा जीवन का विस्तार करती है।

प्रतिक्रिया पर्यावरण का अनुकूलन:

फ़ंक्शन: उच्च-गुणवत्ता वाले सस्पेक्टर्स का उपयोग करके, MOCVD रिएक्टर में गैस प्रवाह और तापमान क्षेत्र को अनुकूलित किया जाता है, एक समान फिल्म बयान प्रक्रिया सुनिश्चित करने और डिवाइस की उपज और प्रदर्शन में सुधार होता है। यह आमतौर पर MOCVD रिएक्टरों और Aixtron MoCVD उपकरण के लिए सस्पेक्टर्स में उपयोग किया जाता है।

उत्पाद सुविधाएँ और तकनीकी लाभ：

उच्च तापीय चालकता और थर्मल स्थिरता:

विशेषताएं: SIC और TAC लेपित सूसियों में अत्यधिक उच्च तापीय चालकता होती है, जल्दी और समान रूप से गर्मी वितरित कर सकते हैं, और उच्च तापमान पर संरचनात्मक स्थिरता बनाए रख सकते हैं ताकि वेफर्स की समान हीटिंग सुनिश्चित हो सके।

लाभ: MOCVD प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है जिसमें सटीक तापमान नियंत्रण की आवश्यकता होती है, जैसे कि गैलियम नाइट्राइड (GAN) और गैलियम आर्सेनाइड (GAAS) जैसे यौगिक अर्धचालक की एपिटैक्सियल विकास।

उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध:

विशेषताएं: सीवीडी एसआईसी कोटिंग और सीवीडी टीएसी कोटिंग में उच्च रासायनिक निष्क्रियता होती है और यह क्लोराइड और फ्लोराइड्स जैसे अत्यधिक संक्षारक गैसों से जंग का विरोध कर सकता है, जो कि सस्पेक्टर के सब्सट्रेट को क्षति से बचाता है।

लाभ: सूसोसेप्टर के सेवा जीवन का विस्तार करें, रखरखाव की आवृत्ति को कम करें, और MOCVD प्रक्रिया की समग्र दक्षता में सुधार करें।

उच्च यांत्रिक शक्ति और कठोरता:

विशेषताएं: SIC और TAC कोटिंग्स की उच्च कठोरता और यांत्रिक शक्ति उच्च तापमान और उच्च दबाव वातावरण में यांत्रिक तनाव का सामना करने और दीर्घकालिक स्थिरता और सटीकता बनाए रखने में सक्षम होती है।

लाभ: विशेष रूप से अर्धचालक विनिर्माण प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है जिसमें उच्च परिशुद्धता की आवश्यकता होती है, जैसे कि एपिटैक्सियल ग्रोथ और रासायनिक वाष्प जमाव।

बाजार अनुप्रयोग और विकास संभावनाएं

MOCVD सूस्विनर्सव्यापक रूप से उच्च-उज्ज्वल एलईडी, पावर इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों (जैसे कि GAN- आधारित HEMTS), सौर कोशिकाओं और अन्य ऑप्टोइलेक्ट्रोनिक उपकरणों के निर्माण में उपयोग किए जाते हैं। उच्च प्रदर्शन और कम बिजली की खपत सेमीकंडक्टर उपकरणों की बढ़ती मांग के साथ, MOCVD तकनीक आगे बढ़ती रहती है, जो कि सस्पेक्टर सामग्री और डिजाइनों में नवाचार को चला रही है। उदाहरण के लिए, उच्च शुद्धता और कम दोष घनत्व के साथ एसआईसी कोटिंग तकनीक का विकास करना, और बड़े वेफर्स और अधिक जटिल बहु-परत एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं के अनुकूल होने के लिए सूसोसेप्टर के संरचनात्मक डिजाइन का अनुकूलन करना।

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