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सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल
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सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल

वेटेक सेमीकंडक्टर एक पेशेवर निर्माता और चीन में सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल उत्पादों के नेता हैं। CVD TAC कोटिंग क्रूसिबल टैंटलम कार्बन (TAC) कोटिंग पर आधारित है। टैंटलम कार्बन कोटिंग समान रूप से अपने गर्मी प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध को बढ़ाने के लिए रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया के माध्यम से क्रूसिबल की सतह पर कवर किया जाता है। यह एक सामग्री उपकरण है जिसका उपयोग विशेष रूप से उच्च तापमान चरम वातावरण में किया जाता है। अपने आगे के परामर्श का स्वागत करें।

टीएसी कोटिंग रोटेशन सूसप्लेर सीवीडी और एमबीई जैसे उच्च तापमान जमाव प्रक्रियाओं में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है, और अर्धचालक विनिर्माण में वेफर प्रसंस्करण के लिए एक महत्वपूर्ण घटक है। उनमें से,टीएसी कोटिंगउत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध और रासायनिक स्थिरता है, जो वेफर प्रसंस्करण के दौरान उच्च परिशुद्धता और उच्च गुणवत्ता सुनिश्चित करता है।


CVD TAC कोटिंग क्रूसिबल में आमतौर पर TAC कोटिंग और होता हैग्रेफाइटसब्सट्रेट। उनमें से, टीएसी एक उच्च पिघलने बिंदु सिरेमिक सामग्री है जिसमें 3880 डिग्री सेल्सियस तक पिघलने बिंदु है। इसमें अत्यधिक उच्च कठोरता (2000 एचवी तक विकर्स कठोरता), रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध और मजबूत ऑक्सीकरण प्रतिरोध है। इसलिए, TAC कोटिंग अर्धचालक प्रसंस्करण प्रौद्योगिकी में एक उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोधी सामग्री है।

ग्रेफाइट सब्सट्रेट में अच्छी तापीय चालकता है (थर्मल चालकता लगभग 21 w/m · k) और उत्कृष्ट यांत्रिक स्थिरता है। यह विशेषता निर्धारित करती है कि ग्रेफाइट एक आदर्श कोटिंग बन जाता हैसब्सट्रेट.


CVD TAC कोटिंग क्रूसिबल का उपयोग मुख्य रूप से निम्नलिखित अर्धचालक प्रसंस्करण प्रौद्योगिकियों में किया जाता है:


वफ़र विनिर्माण: वेटेक सेमीकंडक्टर सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल में उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध (3880 डिग्री सेल्सियस तक पिघलने बिंदु) और संक्षारण प्रतिरोध होता है, इसलिए यह अक्सर उच्च तापमान वाष्प बयान (सीवीडी) और एपिटैक्सियल विकास जैसी प्रमुख वेफर विनिर्माण प्रक्रियाओं में उपयोग किया जाता है। अल्ट्रा-हाई तापमान वातावरण में उत्पाद की उत्कृष्ट संरचनात्मक स्थिरता के साथ संयुक्त, यह सुनिश्चित करता है कि उपकरण बेहद कठोर परिस्थितियों में लंबे समय तक काम कर सकते हैं, जिससे वेफर्स की उत्पादन दक्षता और गुणवत्ता में प्रभावी रूप से सुधार हो सकता है।


एपिटैक्सियल वृद्धि प्रक्रिया: जैसे एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं मेंरासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी)और आणविक बीम एपिटैक्सी (एमबीई), सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल ले जाने में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है। इसकी TAC कोटिंग न केवल चरम तापमान और संक्षारक वातावरण के तहत सामग्री की उच्च शुद्धता को बनाए रख सकती है, बल्कि सामग्री और रिएक्टर के जंग पर अभिकारकों के संदूषण को प्रभावी ढंग से रोकती है, उत्पादन प्रक्रिया और उत्पाद स्थिरता की सटीकता सुनिश्चित करती है।


चीन के प्रमुख सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल निर्माता और नेता के रूप में, वेटेक सेमीकंडक्टर आपके उपकरण और प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित उत्पाद और तकनीकी सेवाएं प्रदान कर सकते हैं। हम ईमानदारी से चीन में आपके दीर्घकालिक भागीदार बनने की उम्मीद करते हैं।


एक सूक्ष्म क्रॉस-सेक्शन पर टैंटलम कार्बाइड (टीएसी) कोटिंग


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


टीएसी कोटिंग के भौतिक गुण


टीएसी कोटिंग के भौतिक गुण
घनत्व
14.3 (जी/सेमी))
विशिष्ट उत्सर्जन
0.3
थर्मल विस्तार गुणांक
6.3*10-6/K
कठोरता (एचके)
2000 एचके
प्रतिरोध
1 × 10-5ओम*सेमी
तापीय स्थिरता
<2500 ℃
ग्रेफाइट आकार बदलता है
-10 ~ -20UM
कोटिंग मोटाई
≥20um ठेठ मान (35UM ± 10UM)


यह अर्धचालक सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल दुकानें :


CVD TaC Coating Crucible shops



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    anny@veteksemi.com

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