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अर्धचालक क्वार्ट्ज स्नान
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अर्धचालक क्वार्ट्ज स्नान

Veteksemicon चीन में सेमीकंडक्टर से संबंधित सामान का एक प्रमुख आपूर्तिकर्ता है। सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज बाथ एक उच्च-प्रदर्शन उपकरण है जिसे सिलिकॉन वेफर सफाई के लिए डिज़ाइन किया गया है। उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज से बना, इसमें उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध (0 ° C से 1200 ° C) और संक्षारण प्रतिरोध होता है। यह 300 मिमी के अधिकतम व्यास के साथ 50 वेफर्स तक समायोजित कर सकता है और विशेष आकार के अनुकूलन का समर्थन करता है। आपकी जांच के लिए आगे देख रहे हैं।

वेटेक सेमीकंडक्टर का क्वार्ट्ज बाथ सिलिकॉन वेफर्स की सफाई और प्रसंस्करण के लिए डिज़ाइन किया गया है और इसका व्यापक रूप से अर्धचालक, फोटोवोल्टिक और अन्य क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है। अर्धचालक के लिए क्वार्ट्ज स्नान उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज सामग्री से बना है, जिसमें उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध और रासायनिक स्थिरता है, और उच्च तापमान और उच्च संक्षारण वातावरण में काम कर सकता है। चाहे वह 300 मिमी के व्यास के साथ बड़े वेफर्स की सफाई कर रहा हो या अन्य विनिर्देशों की अनुकूलित आवश्यकताओं के साथ, अर्धचालक क्वार्ट्ज स्नान आपकी उत्पादन लाइन को सशक्त बनाने के लिए कुशल और विश्वसनीय समाधान प्रदान कर सकता है।


अर्धचालक क्वार्ट्ज स्नान उत्पाद की विशेषताएँ


Quartz bath for Semiconductor

1। बैच की सफाई की जरूरतों को पूरा करने के लिए बड़ी क्षमता डिजाइन

● 50 वेफर्स को समायोजित करें: सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज बाथ का मानक डिजाइन एक ही समय में 50 वेफर्स की सफाई का समर्थन करता है, जिससे सफाई दक्षता में बहुत सुधार होता है।

● कई आकारों के साथ संगत: 300 मिमी के अधिकतम व्यास के साथ वेफर्स का समर्थन करता है, और आवश्यकताओं के अनुसार भी अनुकूलित किया जा सकता है। अन्य आकार, जैसे कि 150 मिमी या 200 मिमी, विभिन्न प्रक्रिया प्रवाह की जरूरतों को पूरा कर सकते हैं।

● मॉड्यूलर डिजाइन: सिलिकॉन के लिए उपयुक्तवेफर्सविभिन्न विनिर्देशों में, तेजी से स्विचिंग का समर्थन करता है, और लचीले ढंग से विभिन्न सफाई कार्यों के लिए प्रतिक्रिया करता है।


2। उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज सामग्री, उत्कृष्ट प्रदर्शन गारंटी

● उच्च तापमान प्रतिरोध: क्वार्ट्ज सामग्री 0 ° C से 1200 ° C के तापमान सीमा का सामना कर सकती है, विभिन्न प्रकार के थर्मल सफाई और गर्मी उपचार प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है।

● जंग प्रतिरोध:क्वार्ट्ज टैंकलंबे समय तक मजबूत एसिड (जैसे एचएफ, एचसीएल) और मजबूत क्षारीय के जंग का विरोध कर सकते हैं, और विशेष रूप से रासायनिक नक़्क़ाशी समाधान या सफाई समाधानों के संचलन उपचार के लिए उपयुक्त है।

● उच्च स्वच्छता: सेमीकंडक्टर क्वार्ट्ज टैंक की आंतरिक दीवार की सतह चिकनी है और इसमें कोई छिद्र नहीं है, और यह कणों या रासायनिक अवशेषों को प्रभावी ढंग से नहीं करेगा, प्रभावी रूप से चिप संदूषण से बचता है।


3। विभिन्न प्रक्रिया आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए लचीला अनुकूलन

● आकार अनुकूलन: उपयोगकर्ता के अनुसार स्नान के आकार, गहराई और क्षमता को समायोजित करें, विशेष चिप विनिर्देशों की सफाई आवश्यकताओं का समर्थन करने की आवश्यकता है।

● स्वचालित एकीकरण के लिए समर्थन: चिप क्लीनिंग के पूरी तरह से स्वचालित संचालन को प्राप्त करने के लिए औद्योगिक स्वचालन उपकरण के साथ संगत।


4। उत्पाद की गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए उच्च-सटीक प्रक्रिया

● सटीक वेल्डिंग और प्रसंस्करण: उच्च तापमान और उच्च दबाव वातावरण के तहत उपकरणों की स्थिरता और सीलिंग सुनिश्चित करने के लिए उन्नत प्रसंस्करण तकनीक का उपयोग करें।

●  Durable design: After multiple durability tests, ensure that the equipment performs as before under long-term high-frequency use.

● उच्च विश्वसनीयता: सफाई के दौरान वेफर्स के खरोंच, टूटने या क्रॉस संदूषण से बचें, और उपज दर में सुधार करें।


अर्धचालक क्वार्ट्ज स्नान तकनीकी पैरामीटर


पैरामीटर आइटम
विस्तृत विवरण
सामग्री
उच्च-शुद्धता क्वार्ट्ज (Sio₂ Purity> 99.99%)
अधिकतम योग्यता
50 वेफर्स को समायोजित कर सकते हैं (अनुकूलन योग्य)
वफ़र व्यास
अधिकतम समर्थन 300 मिमी (अनुकूलन योग्य)
तापमान की रेंज
0 ° C से 1200 ° C से
रासायनिक प्रतिरोध
एचएफ, एचएनओ, एचसीएल जैसे मजबूत एसिड और एल्कलिस के लिए प्रतिरोधी

अर्धचालक के लिए क्वार्ट्ज स्नान के लागू परिदृश्य


1। सेमीकंडक्टर उद्योग

● सिलिकॉन वेफर सफाई: वेफर की सतह पर कणों, ऑक्साइड परतों और कार्बनिक अवशेषों को हटाने के लिए उपयोग किया जाता है।

● नक़्क़ाशी तरल उपचार: विशिष्ट क्षेत्रों में सामग्री को सटीक रूप से हटाने के लिए रासायनिक नक़्क़ाशी प्रक्रिया के साथ सहयोग करें।

2. फोटोवोल्टिक उद्योग

● सौर सेल सफाई: उत्पादन प्रक्रिया के दौरान उत्पन्न प्रदूषकों को हटा दें और सेल की रूपांतरण दक्षता में सुधार करें।

3। वैज्ञानिक अनुसंधान प्रयोग

● सामग्री विज्ञान: उच्च शुद्धता वाले प्रयोगात्मक नमूनों की सफाई के लिए उपयुक्त।

● माइक्रो-नैनो प्रसंस्करण: विभिन्न प्रकार के प्रयोगात्मक उपकरण और प्रक्रिया प्रवाह का समर्थन करता है।


यह अर्धचालक क्वार्ट्ज स्नान उत्पादन दुकानें

SiC Coating Wafer CarrierPVT growth of SiC single crystal process equipmentCVD SiC Focus RingSemiconductor Quartz tank Equipment


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