समाचार

यह लेख इतालवी कंपनी LPE के नए डिज़ाइन किए गए PE1O8 हॉट-वॉल CVD रिएक्टर में नवीनतम विकास और 200 मिमी SiC पर एकसमान 4H-SiC एपिटॉक्सी प्रदर्शन करने की क्षमता का परिचय देता है।

पावर इलेक्ट्रॉनिक्स, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स और अन्य क्षेत्रों में SiC सामग्रियों की बढ़ती मांग के साथ, SiC सिंगल क्रिस्टल ग्रोथ टेक्नोलॉजी का विकास वैज्ञानिक और तकनीकी नवाचार का एक प्रमुख क्षेत्र बन जाएगा। SiC सिंगल क्रिस्टल विकास उपकरण के मूल के रूप में, थर्मल फील्ड डिज़ाइन पर व्यापक ध्यान और गहन शोध जारी रहेगा।

निरंतर तकनीकी प्रगति और गहन तंत्र अनुसंधान के माध्यम से, 3C-SiC हेटेरोएपिटैक्सियल तकनीक से सेमीकंडक्टर उद्योग में अधिक महत्वपूर्ण भूमिका निभाने और उच्च दक्षता वाले इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के विकास को बढ़ावा देने की उम्मीद है।

स्थानिक ALD, स्थानिक रूप से पृथक परमाणु परत बयान। वेफर विभिन्न पदों के बीच चलता है और प्रत्येक स्थिति में विभिन्न अग्रदूतों के संपर्क में आता है। नीचे दिया गया आंकड़ा पारंपरिक ALD और स्थानिक रूप से पृथक ALD के बीच तुलना है।

हाल ही में, जर्मन रिसर्च इंस्टीट्यूट फ्रॉनहोफर IISB ने टैंटलम कार्बाइड कोटिंग तकनीक के अनुसंधान और विकास में सफलता हासिल की है, और एक स्प्रे कोटिंग समाधान विकसित किया है जो सीवीडी बयान समाधान की तुलना में अधिक लचीला और पर्यावरण के अनुकूल है, और इसका व्यवसायीकरण किया गया है।

तेजी से तकनीकी विकास के एक युग में, 3 डी प्रिंटिंग, उन्नत विनिर्माण प्रौद्योगिकी के एक महत्वपूर्ण प्रतिनिधि के रूप में, धीरे -धीरे पारंपरिक विनिर्माण के चेहरे को बदल रहा है। प्रौद्योगिकी की निरंतर परिपक्वता और लागतों में कमी के साथ, 3 डी प्रिंटिंग तकनीक ने कई क्षेत्रों जैसे कि एयरोस्पेस, ऑटोमोबाइल निर्माण, चिकित्सा उपकरण और वास्तुशिल्प डिजाइन में व्यापक अनुप्रयोग संभावनाओं को दिखाया है, और इन उद्योगों के नवाचार और विकास को बढ़ावा दिया है।