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एल्ड परमाणु परत जमाव नुस्खा27 2024-07

एल्ड परमाणु परत जमाव नुस्खा

स्थानिक ALD, स्थानिक रूप से पृथक परमाणु परत बयान। वेफर विभिन्न पदों के बीच चलता है और प्रत्येक स्थिति में विभिन्न अग्रदूतों के संपर्क में आता है। नीचे दिया गया आंकड़ा पारंपरिक ALD और स्थानिक रूप से पृथक ALD के बीच तुलना है।
टैंटलम कार्बाइड प्रौद्योगिकी सफलता, एसआईसी एपिटैक्सियल प्रदूषण 75%कम हो गया?27 2024-07

टैंटलम कार्बाइड प्रौद्योगिकी सफलता, एसआईसी एपिटैक्सियल प्रदूषण 75%कम हो गया?

हाल ही में, जर्मन रिसर्च इंस्टीट्यूट फ्रॉनहोफर IISB ने टैंटलम कार्बाइड कोटिंग तकनीक के अनुसंधान और विकास में सफलता हासिल की है, और एक स्प्रे कोटिंग समाधान विकसित किया है जो सीवीडी बयान समाधान की तुलना में अधिक लचीला और पर्यावरण के अनुकूल है, और इसका व्यवसायीकरण किया गया है।
अर्धचालक उद्योग में 3 डी प्रिंटिंग प्रौद्योगिकी का खोजपूर्ण अनुप्रयोग19 2024-07

अर्धचालक उद्योग में 3 डी प्रिंटिंग प्रौद्योगिकी का खोजपूर्ण अनुप्रयोग

तेजी से तकनीकी विकास के एक युग में, 3 डी प्रिंटिंग, उन्नत विनिर्माण प्रौद्योगिकी के एक महत्वपूर्ण प्रतिनिधि के रूप में, धीरे -धीरे पारंपरिक विनिर्माण के चेहरे को बदल रहा है। प्रौद्योगिकी की निरंतर परिपक्वता और लागतों में कमी के साथ, 3 डी प्रिंटिंग तकनीक ने कई क्षेत्रों जैसे कि एयरोस्पेस, ऑटोमोबाइल निर्माण, चिकित्सा उपकरण और वास्तुशिल्प डिजाइन में व्यापक अनुप्रयोग संभावनाओं को दिखाया है, और इन उद्योगों के नवाचार और विकास को बढ़ावा दिया है।
सिलिकॉन (एसआई) एपिटैक्सी तैयारी प्रौद्योगिकी16 2024-07

सिलिकॉन (एसआई) एपिटैक्सी तैयारी प्रौद्योगिकी

एकल क्रिस्टल सामग्री अकेले विभिन्न अर्धचालक उपकरणों के बढ़ते उत्पादन की जरूरतों को पूरा नहीं कर सकती है। 1959 के अंत में, एकल क्रिस्टल सामग्री विकास प्रौद्योगिकी की एक पतली परत - एपिटैक्सियल विकास विकसित किया गया था।
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