टैंटलम कार्बाइड (टीएसी)？ क्या है

टैंटलम कार्बाइड (टीएसी)टैंटलम (टीए) और कार्बन (सी) का एक द्विआधारी यौगिक है, रासायनिक सूत्र के साथ आमतौर पर टैक (जहां एक्स 0.4 से 1 तक होता है) के रूप में व्यक्त किया जाता है। इसे उत्कृष्ट कठोरता, उच्च तापमान स्थिरता और धातु चालकता के साथ एक दुर्दम्य सिरेमिक सामग्री के रूप में वर्गीकृत किया गया है।

1। टैंटलम कार्बाइड की संरचना

1.1 रासायनिक संरचना और क्रिस्टल संरचना

टैंटलम कार्बाइड एक द्विआधारी सिरेमिक यौगिक है जो टैंटलम (टीए) और कार्बन (सी) से बना है।

इसकी क्रिस्टल संरचना फेस-केंद्रित क्यूबिक (एफसीसी) है, जो इसे उत्कृष्ट कठोरता और स्थिरता देती है।

1.2 संबंध गुण

मजबूत सहसंयोजक संबंध टैंटलम कार्बाइड को विरूपण के लिए बेहद कठोर और प्रतिरोधी बनाता है।

टीएसी में एक बहुत कम प्रसार गुणांक है और उच्च तापमान पर भी स्थिर रहता है।

एक सूक्ष्म क्रॉस-सेक्शन पर टैंटलम कार्बाइड (टीएसी) कोटिंग

2। टैंटलम कार्बाइड के भौतिक गुण

2.1 अल्ट्रा-हाई पिघलने बिंदु

3,880 डिग्री सेल्सियस के पिघलने बिंदु के साथ, टैंटलम कार्बाइड में किसी भी ज्ञात सामग्री के उच्चतम पिघलने वाले बिंदुओं में से एक है, जिसके परिणामस्वरूप अत्यधिक तापमान पर उत्कृष्ट स्थिरता होती है।

2.2 उत्कृष्ट कठोरता

लगभग 9-10 की मोहस कठोरता के साथ, यह हीरे के करीब है और इसलिए इसका व्यापक रूप से पहनने के प्रतिरोधी कोटिंग्स में उपयोग किया जाता है।

2.3 अच्छी विद्युत चालकता

अधिकांश सिरेमिक सामग्रियों के विपरीत, टीएसी में एक उच्च धातु जैसी विद्युत चालकता होती है, जो इसे कुछ इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में अनुप्रयोगों के लिए मूल्यवान बनाता है।

2.4 जंग और ऑक्सीकरण प्रतिरोध

टीएसी एसिड जंग के लिए बेहद प्रतिरोधी है और लंबे समय तक कठोर वातावरण में अपनी संरचनात्मक अखंडता को बनाए रखता है। हालांकि, टीएसी 1,500 डिग्री सेल्सियस से ऊपर हवा में टैंटलम पेंटोक्साइड (Ta₂o₅) के लिए ऑक्सीकरण कर सकता है। 

3। कॉमन टैंटालम कार्बाइड उत्पादों को समाप्त कर दिया

3.1 टैंटलम कार्बाइड लेपित भागों

● सीवीडी टैंटलम कार्बाइड कोटेड सूस्टिस्टर: अर्धचालक एपिटैक्सी और उच्च तापमान प्रसंस्करण में उपयोग किया जाता है।

● टैंटलम कार्बाइड लेपित ग्रेफाइट भागों: उच्च तापमान भट्टियों और वेफर प्रसंस्करण कक्षों में उपयोग किया जाता है। उदाहरणों में टैंटालम कार्बाइड लेपित झरझरा ग्रेफाइट शामिल हैं, जो कि एसआईसी क्रिस्टल विकास के दौरान गैस प्रवाह को अनुकूलित करके, थर्मल तनाव को कम करने, थर्मल एकरूपता में सुधार, जंग प्रतिरोध को बढ़ाने और अशुद्धता प्रसार को बाधित करने से प्रक्रिया दक्षता और क्रिस्टल गुणवत्ता में काफी सुधार करता है।

● टैंटलम कार्बाइड लेपित रोटेशन प्लेट: Veteksemicon की TAC लेपित रोटेशन प्लेट में 5ppm से कम अशुद्धता सामग्री और एक घनी और समान संरचना के साथ एक उच्च शुद्धता रचना होती है, जो LPE EPI सिस्टम, Aixtron सिस्टम, Nuflare System, Tel CVD सिस्टम, VEECO सिस्टम, TSI सिस्टम में व्यापक रूप से उपयोग की जाती है। सिस्टम, टीएसआई सिस्टम।

● टैक लेपित हीटर: TAC कोटिंग के बेहद उच्च पिघलने बिंदु (~ 3880 ° C) का संयोजन इसे बहुत अधिक तापमान पर संचालित करने की अनुमति देता है, विशेष रूप से धातु कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (MOCVD) प्रक्रिया में गैलियम नाइट्राइड (GAN) एपिटैक्सियल परतों के विकास में।

● टैंटलम कार्बाइड कोटेड क्रूसिबल: CVD TAC लेपित क्रूसिबल अक्सर Pvt द्वारा SIC सिंगल क्रिस्टल के विकास में महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं।

3.2 Cutting Tools and Wear-Resistant Components

● टैंटलम कार्बाइड लेपित कार्बाइड कटिंग टूल्स: उपकरण जीवन और मशीनिंग सटीकता में सुधार करें।

● एयरोस्पेस नोजल और हीट शील्ड्स: अत्यधिक गर्मी और संक्षारक वातावरण में सुरक्षा प्रदान करें।

3.3 टैंटलम कार्बाइड उच्च प्रदर्शन सिरेमिक उत्पाद

● अंतरिक्ष यान थर्मल प्रोटेक्शन सिस्टम (टीपीएस): अंतरिक्ष यान और हाइपरसोनिक वाहनों के लिए।

● परमाणु ईंधन कोटिंग्स: परमाणु ईंधन छर्रों को जंग से बचाने के लिए।

4। सेमीकंडक्टर विनिर्माण में टैंटलम कार्बाइड अनुप्रयोग

4.1 टैंटालम कार्बाइड लेपित वाहक (सस्पेक्टर) एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं के लिए

भूमिका: ग्रेफाइट वाहक पर लागू टैंटालम कार्बाइड कोटिंग्स रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (MOCVD) प्रक्रियाओं में थर्मल एकरूपता और रासायनिक स्थिरता में सुधार करते हैं।

लाभ: कम प्रक्रिया संदूषण और विस्तारित वाहक जीवन।

4.2 ईच और बयान घटक

वेफर ट्रांसफर रिंग्स और शील्ड्स: टैंटालम कार्बाइड कोटिंग प्लाज्मा ईच चैंबर्स के स्थायित्व में सुधार करती है।

लाभ: आक्रामक नक़्क़ाशी वातावरण का सामना करता है और दूषित वर्षा को कम करता है।

4.3 उच्च तापमान हीटिंग तत्व

SIC CVD विकास में आवेदन: टैंटलम कार्बाइड कोटेड हीटिंग तत्व सिलिकॉन कार्बाइड (SIC) वेफर फैब्रिकेशन प्रक्रिया की स्थिरता और दक्षता में सुधार करते हैं।

4.4 अर्धचालक विनिर्माण उपकरण के लिए सुरक्षात्मक कोटिंग्स

आपको टीएसी कोटिंग की आवश्यकता क्यों है?  सेमीकंडक्टर विनिर्माण में अत्यधिक तापमान और संक्षारक गैसें शामिल हैं, और टैंटलम कार्बाइड कोटिंग्स उपकरणों की स्थिरता और जीवनकाल में सुधार करने में प्रभावी हैं।

5। क्यों चुनेंअर्धविराम?

अर्धविराम एक प्रमुख निर्माता और आपूर्तिकर्ता हैटैंटलम कार्बाइड कोटिंगचीन में अर्धचालक उद्योग को सामग्री। हमारे मुख्य उत्पादों में सीवीडी टैंटलम कार्बाइड लेपित भागों, एसआईसी क्रिस्टल विकास या अर्धचालक एपिटैक्सी प्रक्रियाओं के लिए टीएसी कोटेड पार्ट्स शामिल हैं। Veteksemicon निरंतर R & D और प्रौद्योगिकी पुनरावृत्ति के माध्यम से टैंटलम कार्बाइड कोटिंग उद्योग में एक प्रर्वतक और नेता होने के लिए प्रतिबद्ध है।