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8 इंच सिलिकॉन कार्बाइड सिंगल क्रिस्टल ग्रोथ फर्नेस टेक्नोलॉजी पर आधारित है11 2024-07

8 इंच सिलिकॉन कार्बाइड सिंगल क्रिस्टल ग्रोथ फर्नेस टेक्नोलॉजी पर आधारित है

सिलिकॉन कार्बाइड उच्च तापमान, उच्च-आवृत्ति, उच्च-शक्ति और उच्च-वोल्टेज उपकरण बनाने के लिए आदर्श सामग्रियों में से एक है। उत्पादन दक्षता में सुधार करने और लागत को कम करने के लिए, बड़े आकार के सिलिकॉन कार्बाइड सब्सट्रेट की तैयारी एक महत्वपूर्ण विकास दिशा है।
चीनी कंपनियाँ कथित तौर पर ब्रॉडकॉम के साथ 5nm चिप्स विकसित कर रही हैं!10 2024-07

चीनी कंपनियाँ कथित तौर पर ब्रॉडकॉम के साथ 5nm चिप्स विकसित कर रही हैं!

ओवरसीज न्यूज के अनुसार, दो सूत्रों ने 24 जून को खुलासा किया कि बाईडेंस यूएस चिप डिज़ाइन कंपनी ब्रॉडकॉम के साथ एक उन्नत आर्टिफिशियल इंटेलिजेंस (एआई) कंप्यूटिंग प्रोसेसर विकसित करने के लिए काम कर रहा है, जो चीन के बीच तनाव के बीच उच्च-अंत चिप्स की पर्याप्त आपूर्ति सुनिश्चित करने में मदद करेगा। और संयुक्त राज्य अमेरिका।
सैनन ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स कंपनी लिमिटेड: 8-इंच SiC चिप्स के दिसंबर में उत्पादन में आने की उम्मीद है!09 2024-07

सैनन ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स कंपनी लिमिटेड: 8-इंच SiC चिप्स के दिसंबर में उत्पादन में आने की उम्मीद है!

SiC उद्योग में एक अग्रणी निर्माता के रूप में, सैनन ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स की संबंधित गतिशीलता ने उद्योग में व्यापक ध्यान आकर्षित किया है। हाल ही में, सानान ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स ने नवीनतम विकासों की एक श्रृंखला का खुलासा किया, जिसमें 8-इंच परिवर्तन, नए सब्सट्रेट कारखाने का उत्पादन, नई कंपनियों की स्थापना, सरकारी सब्सिडी और अन्य पहलू शामिल हैं।
एकल क्रिस्टल भट्टियों में टीएसी-लेपित ग्रेफाइट भागों का अनुप्रयोग05 2024-07

एकल क्रिस्टल भट्टियों में टीएसी-लेपित ग्रेफाइट भागों का अनुप्रयोग

भौतिक वाष्प परिवहन (पीवीटी) विधि का उपयोग करके SiC और AlN एकल क्रिस्टल की वृद्धि में, क्रूसिबल, बीज धारक और गाइड रिंग जैसे महत्वपूर्ण घटक महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं। जैसा कि चित्र 2 [1] में दर्शाया गया है, पीवीटी प्रक्रिया के दौरान, बीज क्रिस्टल निचले तापमान क्षेत्र में स्थित होता है, जबकि SiC कच्चा माल उच्च तापमान (2400 ℃ से ऊपर) के संपर्क में आता है।
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