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सिलिकॉन कार्बाइड नैनोमैटेरियल्स (एसआईसी) नैनोमीटर स्केल (1-100nm) में कम से कम एक आयाम वाली सामग्री हैं। ये सामग्रियां शून्य-, एक-, दो-, या त्रि-आयामी हो सकती हैं और इसमें विविध अनुप्रयोग हो सकते हैं।

CVD SIC रासायनिक वाष्प बयान द्वारा निर्मित एक उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड सामग्री है। यह मुख्य रूप से सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण उपकरणों में विभिन्न घटकों और कोटिंग्स के लिए उपयोग किया जाता है। निम्नलिखित सामग्री सीवीडी एसआईसी के उत्पाद वर्गीकरण और मुख्य कार्यों का एक परिचय है

यह लेख मुख्य रूप से सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण में टीएसी कोटिंग के उत्पाद प्रकार, उत्पाद विशेषताओं और मुख्य कार्यों का परिचय देता है, और एक पूरे के रूप में टीएसी कोटिंग उत्पादों की एक व्यापक विश्लेषण और व्याख्या करता है।

यह लेख मुख्य रूप से सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण में MOCVD सुस्पेक्लर के उत्पाद प्रकार, उत्पाद विशेषताओं और मुख्य कार्यों का परिचय देता है, और एक पूरे के रूप में MOCVD सूसोसेप्टर उत्पादों की एक व्यापक विश्लेषण और व्याख्या करता है।

एएसएम के लिए एक SiC लेपित ग्रेफाइट सुसेप्टर एक एपिटेक्सी सिस्टम के अंदर सिर्फ एक प्रतिस्थापन हिस्सा नहीं है। यह एक प्रक्रिया-महत्वपूर्ण वाहक है जो थर्मल एकरूपता, वेफर सफाई, कोटिंग स्थायित्व, कक्ष स्थिरता और दीर्घकालिक उत्पादन लागत को प्रभावित करता है।

CVD TaC कोटिंग कवर केवल एक सुरक्षात्मक ढक्कन या लेपित ग्रेफाइट घटक नहीं है। उच्च तापमान अर्धचालक प्रक्रियाओं में, यह कक्ष की सफाई, थर्मल स्थिरता, भाग जीवनकाल और प्रक्रिया स्थिरता को प्रभावित कर सकता है।