मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन के लिए क्रूसिबल

CZ (Czochralski) विधि में, पिघले हुए पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन के संपर्क में एक मोनोक्रिस्टलाइन बीज लाकर एक एकल क्रिस्टल उगाया जाता है। धीरे -धीरे घुमाए जाने के दौरान बीज को धीरे -धीरे ऊपर की ओर खींचा जाता है। इस प्रक्रिया में, ग्रेफाइट भागों की एक महत्वपूर्ण संख्या का उपयोग किया जाता है, जिससे यह वह विधि बन जाती है जो सिलिकॉन सेमीकंडक्टर विनिर्माण में सबसे अधिक मात्रा में ग्रेफाइट घटकों को नियोजित करता है।

सही तस्वीर सीजेड विधि के आधार पर एक सिलिकॉन सिंगल-क्रिस्टल मैन्युफैक्चरिंग भट्टी का एक योजनाबद्ध प्रतिनिधित्व प्रदान करती है।

मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन के लिए वेटेक सेमीकंडक्टर का क्रूस सेमीकंडक्टर क्रिस्टल के सटीक गठन के लिए एक स्थिर और नियंत्रित वातावरण महत्वपूर्ण प्रदान करता है। वे Czochralski प्रक्रिया और फ्लोट-ज़ोन विधियों जैसी उन्नत तकनीकों का उपयोग करके बढ़ते मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन इंगॉट्स में महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं, जो इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के लिए उच्च गुणवत्ता वाली सामग्री का उत्पादन करने के लिए महत्वपूर्ण हैं।

उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध और न्यूनतम थर्मल विस्तार के लिए इंजीनियर, ये क्रूसिबल स्थायित्व और मजबूती सुनिश्चित करते हैं। वे संरचनात्मक अखंडता या प्रदर्शन से समझौता किए बिना कठोर रासायनिक वातावरण का सामना करने के लिए डिज़ाइन किए गए हैं, जिससे क्रूसिबल के जीवनकाल का विस्तार होता है और लंबे समय तक उपयोग पर लगातार प्रदर्शन को बनाए रखा जाता है।

मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन के लिए वेटेक सेमीकंडक्टर क्रूसिबल की अनूठी रचना उन्हें उच्च तापमान प्रसंस्करण की चरम स्थितियों को सहन करने में सक्षम बनाती है। यह असाधारण थर्मल स्थिरता और शुद्धता की गारंटी देता है, जो अर्धचालक प्रसंस्करण के लिए महत्वपूर्ण हैं। रचना भी कुशल गर्मी हस्तांतरण की सुविधा प्रदान करती है, समान क्रिस्टलीकरण को बढ़ावा देती है और सिलिकॉन पिघल के भीतर थर्मल ग्रेडिएंट को कम करती है।

✔ आधार सामग्री संरक्षण:सीवीडी एसआईसी कोटिंगएपिटैक्सियल प्रक्रिया के दौरान एक सुरक्षात्मक परत के रूप में कार्य करता है, प्रभावी रूप से बाहरी वातावरण के कारण कटाव और क्षति से आधार सामग्री को प्रभावी ढंग से परिरक्षण करता है। यह सुरक्षात्मक उपाय उपकरण के सेवा जीवन को बहुत बढ़ाता है।

✔ उत्कृष्ट तापीय चालकता: हमारे सीवीडी एसआईसी कोटिंग में बकाया थर्मल चालकता है, कुशलता से आधार सामग्री से कोटिंग सतह पर गर्मी को स्थानांतरित करता है। यह एपिटैक्सी के दौरान थर्मल प्रबंधन दक्षता को बढ़ाता है, उपकरणों के लिए इष्टतम ऑपरेटिंग तापमान सुनिश्चित करता है।

✔ बेहतर फिल्म की गुणवत्ता: CVD SIC कोटिंग एक सपाट और समान सतह प्रदान करता है, जो फिल्म विकास के लिए एक आदर्श आधार बनाता है। यह जाली बेमेल से उत्पन्न दोषों को कम करता है, एपिटैक्सियल फिल्म की क्रिस्टलीयता और गुणवत्ता को बढ़ाता है, और अंततः इसके प्रदर्शन और विश्वसनीयता में सुधार करता है।