Sic कोटिंग ald suscestor

यह अर्धचालकSic कोटिंग ald suscestorपरमाणु परत जमाव में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है (एल्ड) प्रक्रिया। इसका सटीक तापमान नियंत्रण, समान गैस वितरण, उच्च रासायनिक प्रतिरोध और उत्कृष्ट तापीय चालकता फिल्म जमाव प्रक्रिया की एकरूपता और उच्च गुणवत्ता को सुनिश्चित करती है। यदि आप अधिक जानना चाहते हैं, तो आप हमसे तुरंत सलाह ले सकते हैं और हम आपको समय पर जवाब देंगे!

सटीक तापमान नियंत्रण:

SIC कोटिंग ALD Sousceptor में आमतौर पर एक उच्च-सटीक तापमान नियंत्रण प्रणाली होती है। यह पूरे बयान प्रक्रिया में एक समान तापमान वातावरण बनाए रखने में सक्षम है, जो फिल्म की एकरूपता और गुणवत्ता को सुनिश्चित करने के लिए महत्वपूर्ण है।

समान गैस वितरण:

एसआईसी कोटिंग एएलडी सूसप्लेर का अनुकूलित डिजाइन एएलडी बयान प्रक्रिया के दौरान गैस के समान वितरण को सुनिश्चित करता है। इसकी संरचना में आमतौर पर पूरे वेफर सतह पर प्रतिक्रियाशील गैसों की समान कवरेज को बढ़ावा देने के लिए कई घूर्णन या चलती भाग शामिल होते हैं।

उच्च रासायनिक प्रतिरोध:

चूंकि एएलडी प्रक्रिया में विभिन्न प्रकार के रासायनिक गैसें शामिल होती हैं, इसलिए एसआईसी कोटिंग एएलडी सूसोसेप्टर आमतौर पर रासायनिक गैसों के क्षरण और उच्च तापमान वातावरण के प्रभाव का विरोध करने के लिए संक्षारण प्रतिरोधी सामग्री (जैसे प्लैटिनम, सिरेमिक या उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज) से बना होता है।

उत्कृष्ट तापीय चालकता:

प्रभावी रूप से गर्मी का संचालन करने और एक स्थिर बयान तापमान को बनाए रखने के लिए, एसआईसी कोटिंग एएलडी सेंसेसर्स आमतौर पर उच्च तापीय चालकता सामग्री का उपयोग करते हैं। यह स्थानीय ओवरहीटिंग और असमान बयान से बचने में मदद करता है।

सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण:

उत्पादन दुकानें:

सेमीकंडक्टर चिप एपिटैक्सी उद्योग श्रृंखला का अवलोकन：