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Sic कोटिंग वेफर वाहक
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Sic कोटिंग वेफर वाहक

एक पेशेवर एसआईसी कोटिंग वेफर वाहक निर्माता और आपूर्तिकर्ता के रूप में, वेटेक सेमीकंडक्टर के एसआईसी कोटिंग वेफर वाहक मुख्य रूप से उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण में उनकी स्थिरता और अखंडता को सुनिश्चित करते हुए, एपिटैक्सियल परत की वृद्धि एकरूपता में सुधार करने के लिए उपयोग किए जाते हैं।

वेटेक सेमीकंडक्टर उच्च प्रदर्शन वाले एसआईसी कोटिंग वेफर वाहक के निर्माण और आपूर्ति में माहिर है और अर्धचालक उद्योग को उन्नत प्रौद्योगिकी और उत्पाद समाधान प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध है।


सेमीकंडक्टर मैन्युफैक्चरिंग में, वेटेक सेमीकंडक्टर का एसआईसी कोटिंग वेफर वाहक रासायनिक वाष्प बयान (सीवीडी) उपकरण में एक प्रमुख घटक है, विशेष रूप से धातु कार्बनिक रासायनिक वाष्प बयान (MOCVD) उपकरण में। इसका मुख्य कार्य एकल क्रिस्टल सब्सट्रेट का समर्थन और गर्म करना है ताकि एपिटैक्सियल परत समान रूप से बढ़ सके। यह उच्च गुणवत्ता वाले अर्धचालक उपकरणों के निर्माण के लिए आवश्यक है।


एसआईसी कोटिंग का संक्षारण प्रतिरोध बहुत अच्छा है, जो प्रभावी रूप से संक्षारक गैसों से ग्रेफाइट आधार की रक्षा कर सकता है। यह उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण में विशेष रूप से महत्वपूर्ण है। इसके अलावा, एसआईसी सामग्री की थर्मल चालकता भी बहुत उत्कृष्ट है, जो समान रूप से गर्मी का संचालन कर सकती है और समान तापमान वितरण सुनिश्चित कर सकती है, जिससे एपिटैक्सियल सामग्री की वृद्धि की गुणवत्ता में सुधार हो सकता है।


एसआईसी कोटिंग उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण में रासायनिक स्थिरता बनाए रखता है, कोटिंग विफलता की समस्या से बचता है। इससे भी महत्वपूर्ण बात यह है कि एसआईसी का थर्मल विस्तार गुणांक ग्रेफाइट के समान है, जो थर्मल विस्तार और संकुचन के कारण कोटिंग शेडिंग की समस्या से बच सकता है, और कोटिंग की दीर्घकालिक स्थिरता और विश्वसनीयता सुनिश्चित करता है।


के बुनियादी भौतिक गुणSic कोटिंग वेफर वाहक:


Basic physical properties of CVD SiC coating


उत्पादन -दुकान:


VeTek Semiconductor Production Shop


सेमीकंडक्टर चिप एपिटैक्सी उद्योग श्रृंखला का अवलोकन:


Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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