गान एपिटैक्सियल अंडरटेकर

GAN एपिटैक्सियल सूसोसेप्टर को गैलियम नाइट्राइड (GAN) एपिटैक्सियल ग्रोथ प्रक्रिया के लिए डिज़ाइन किया गया है और यह उन्नत एपिटैक्सियल तकनीकों जैसे कि उच्च तापमान रासायनिक वाष्प बयान (CVD) और धातु कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (MOCVD) के लिए उपयुक्त है। सूस्विनर उच्च तापमान और उच्च तापमान और कई गैस वातावरण के तहत उत्कृष्ट स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए उच्च शुद्धता, उच्च तापमान प्रतिरोधी सामग्री से बना है, उन्नत अर्धचालक उपकरणों, आरएफ उपकरणों और एलईडी क्षेत्रों की मांग प्रक्रिया आवश्यकताओं को पूरा करता है।

इसके अलावा, Vetek सेमीकंडक्टर के GAN एपिटैक्सियल सूसोसेप्टर में निम्नलिखित उत्पाद विशेषताएं हैं:

● सामग्री रचना

उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट: एसजीएल ग्रेफाइट का उपयोग सब्सट्रेट के रूप में किया जाता है, उत्कृष्ट और स्थिर प्रदर्शन के साथ।

सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग: उच्च-शक्ति GAN उपकरणों की वृद्धि की जरूरतों के लिए उपयुक्त, उच्च उच्च तापीय चालकता, मजबूत ऑक्सीकरण प्रतिरोध और रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करता है। यह उच्च तापमान वाले सीवीडी और MOCVD जैसे कठोर वातावरण में उत्कृष्ट स्थायित्व और लंबी सेवा जीवन को दर्शाता है, जो उत्पादन लागत और रखरखाव की आवृत्ति को काफी कम कर सकता है।

● अनुकूलन

अनुकूलित आकार: Vetek सेमीकंडक्टर ग्राहक की जरूरतों के अनुसार अनुकूलित सेवा का समर्थन करता है, आकार काचालू करनेवालाऔर वेफर होल को अनुकूलित किया जा सकता है।

● ऑपरेटिंग तापमान रेंज

Veteksemi Gan एपिटैक्सियल सूसोसेप्टर 1200 ° C तक तापमान का सामना कर सकता है, जिससे उच्च तापमान एकरूपता और स्थिरता सुनिश्चित हो सकती है।

● लागू उपकरण

हमारा गण एपि सूसिनर मुख्यधारा के साथ संगत हैMOCVD उपकरणजैसे कि Aixtron, Veeco, आदि, उच्च-परिशुद्धता के लिए उपयुक्तगान एपिटैक्सियल प्रक्रिया.

Veteksemi हमेशा ग्राहकों को सबसे उपयुक्त और उत्कृष्ट GAN एपिटैक्सियल सूसोसेप्टर उत्पादों के साथ प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध है और आपके दीर्घकालिक भागीदार बनने के लिए तत्पर है। वेटेक सेमीकंडक्टर आपको पेशेवर उत्पादों और सेवाओं के साथ प्रदान करता है ताकि आपको एपिटैक्सी उद्योग में अधिक परिणाम प्राप्त करने में मदद मिल सके।

Cvd sic फिल्म क्रिस्टल संरचना

सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण

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