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उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज स्नान

उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज स्नान

वेफर सफाई, नक़्क़ाशी और गीली नक़्क़ाशी के महत्वपूर्ण चरणों में, उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज स्नान सिर्फ एक कंटेनर से कहीं अधिक है; यह प्रक्रिया की सफलता के लिए रक्षा की पहली पंक्ति है। धातु आयन संदूषण, थर्मल शॉक क्रैकिंग, रासायनिक हमला और कण अवशेष उपज में उतार-चढ़ाव के छिपे हुए कारण हैं। वेटेक्सेमी सेमीकंडक्टर-ग्रेड क्वार्ट्ज में गहराई से निहित है। हमारे द्वारा निर्मित प्रत्येक क्वार्ट्ज बाथ आपकी अत्याधुनिक प्रक्रियाओं के लिए अटूट विश्वसनीयता और स्वच्छता प्रदान करने के लिए डिज़ाइन किया गया है।

 सामान्य उत्पाद जानकारी

उत्पत्ति का स्थान:
चीन
ब्रांड का नाम:
वेटेक्सेम
मॉडल संख्या:
उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज स्नान-01
प्रमाणीकरण:
ISO9001

उत्पाद व्यवसाय की शर्तें

न्यूनतम आदेश मात्रा:
बातचीत के अधीन
कीमत:
अनुकूलित कोटेशन के लिए संपर्क करें
पैकेजिंग विवरण:
मानक निर्यात पैकेज
डिलीवरी का समय:
डिलीवरी का समय: ऑर्डर की पुष्टि के 30-45 दिन बाद
भुगतान की शर्तें:
टी/टी
आपूर्ति की योग्यता:
100यूनिट/महीना


आवेदन पत्र:वेटेक्सेमी उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज स्नान अर्धचालक गीले प्रसंस्करण में मुख्य बर्तन हैं, जिन्हें विशेष रूप से उच्च तापमान, मजबूत एसिड का सामना करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। उनकी उच्च शुद्धता वाली क्वार्ट्ज सामग्री धातु संदूषण को पूरी तरह से खत्म कर देती है, 1000 डिग्री सेल्सियस से अधिक के थर्मल झटके का सामना करती है, और अधिकांश एसिड और बेस से दीर्घकालिक संक्षारण का प्रतिरोध करती है। चिप निर्माण, सौर सेल, एलईडी और अन्य क्षेत्रों में सफाई और नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं में इनका व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है, और प्रक्रिया की शुद्धता और उत्पाद की उपज सुनिश्चित करने के लिए आधारशिला हैं।


सेवाएँ जो प्रदान की जा सकती हैं:ग्राहक एप्लिकेशन परिदृश्य विश्लेषण, मिलान सामग्री, तकनीकी समस्या समाधान।


कंपनी प्रोफाइल:सेमिक्सलैब में 2 प्रयोगशालाएँ हैं, 20 वर्षों के सामग्री अनुभव वाले विशेषज्ञों की एक टीम, अनुसंधान एवं विकास और उत्पादन, परीक्षण और सत्यापन क्षमताओं के साथ।


तकनीकी मापदंड

परियोजना
पैरामीटर
सामग्री
उच्च शुद्धता सिंथेटिक क्वार्ट्ज ग्लास
विशिष्ट आकार सीमा
ग्राहक के चित्र के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है (लंबाई: 100 मिमी - 2000 मिमी; चौड़ाई: 100 मिमी - 800 मिमी; ऊंचाई: 100 मिमी - 600 मिमी)
अधिकतम सतत संचालन तापमान
≤1700°C
सतह का उपचार
आंतरिक और बाहरी सतह लौ पॉलिशिंग
दीवार की मोटाई एकरूपता
±0.2मिमी
थर्मल विस्तार का गुणांक
5.5 x 10⁻⁷ /के
सामान्य अनुप्रयोग
आरसीए सफाई टैंक, एचएफ एसिड टैंक, सल्फ्यूरिक एसिड टैंक, विआयनीकृत पानी टैंक, विसर्जन टैंक, नक़्क़ाशी टैंक, आदि

वेटेक्सेम उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज स्नान मुख्य लाभ


अत्यंत शुद्ध सामग्री


हम उच्च शुद्धता वाले सिंथेटिक क्वार्ट्ज ग्लास का उत्पादन करने के लिए आर्क मेल्टिंग का उपयोग करते हैं, जिसमें लगातार उच्च SiO2 सामग्री 99.99% से अधिक होती है। इस सामग्री का मुख्य लाभ इसकी क्षार धातुओं (जैसे पोटेशियम और सोडियम) और भारी धातुओं (जैसे लोहा और तांबा) के बेहद कम पृष्ठभूमि स्तर में निहित है। यह उच्च तापमान वाले एसिड स्नान में होने वाली सतह की वर्षा और संदूषण को प्रभावी ढंग से समाप्त करता है, महत्वपूर्ण सफाई चरणों के दौरान आपके वेफर्स को ट्रेस अशुद्धियों से बचाता है और आपके डिवाइस के विद्युत प्रदर्शन की विश्वसनीयता सुनिश्चित करता है।

उत्कृष्ट थर्मल शॉक प्रतिरोध


सिंथेटिक क्वार्ट्ज ग्लास के बेहद कम थर्मल विस्तार गुणांक के लिए धन्यवाद, हमारी अनूठी चरण-एनीलिंग प्रक्रिया के साथ मिलकर, आंतरिक तनाव पूरी तरह से समाप्त हो जाता है। यह स्नान को कमरे के तापमान से 1100 डिग्री सेल्सियस तक बार-बार और कठोर परिचालन तापमान में उतार-चढ़ाव का शांति से सामना करने की अनुमति देता है, जिससे थर्मल तनाव में अचानक वृद्धि के कारण होने वाली दरार या छिपी क्षति से प्रभावी ढंग से बचा जा सकता है, जिससे स्नान के आकस्मिक टूटने के कारण उत्पादन में रुकावट और वेफर हानि का जोखिम काफी कम हो जाता है।


आंतरिक संक्षारण प्रतिरोध


उच्च शुद्धता वाला क्वार्ट्ज हाइड्रोफ्लोरिक एसिड और गर्म फॉस्फोरिक एसिड को छोड़कर अधिकांश मजबूत एसिड (जैसे केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड, हाइड्रोक्लोरिक एसिड और एक्वा रेजिया) के लिए उत्कृष्ट रासायनिक निष्क्रियता प्रदर्शित करता है। यह उच्च तापमान वाले एसिड समाधानों में लंबे समय तक डूबे रहने के बाद भी एक स्थिर रासायनिक संरचना और सतह की स्थिति बनाए रखता है, जो अन्य सामग्रियों की तुलना में कहीं बेहतर संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करता है। यह उत्पाद के जीवनकाल को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाता है और बार-बार प्रतिस्थापन से जुड़ी समग्र परिचालन लागत को कम करता है।


परिशुद्धता सतह उपचार


सभी आंतरिक सतहों, किनारों और वेल्ड को कठोर लौ पॉलिशिंग से गुजरना पड़ता है। यह प्रक्रिया न केवल माइक्रोक्रैक और तेज किनारों को खत्म करती है, बल्कि एक चिकनी, घनी और रासायनिक रूप से निष्क्रिय सतह परत भी बनाती है। यह सतह प्रभावी ढंग से रासायनिक अवशेषों और कण पदार्थ अवशोषण को कम करती है, जिससे टैंकों के बीच तेजी से और पूरी तरह से सफाई की सुविधा मिलती है, जिससे बैचों के बीच क्रॉस-संदूषण का खतरा कम हो जाता है।

मुख्य अनुप्रयोग फ़ील्ड
आवेदन दिशा
विशिष्ट परिदृश्य
सेमीकंडक्टर चिप निर्माण
गीली सफाई और नक़्क़ाशी
सेमीकंडक्टर सिलिकॉन वेफर उत्पादन
सतह का उपचार
सौर फोटोवोल्टिक विनिर्माण
एसिड टैंक और क्षार टैंक की सफाई
माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स
एलईडी विनिर्माण और प्रकाशिकी


पारिस्थितिक श्रृंखला सत्यापन समर्थन


वेटेक्सेमी उच्च-शुद्धता क्वार्ट्ज बाथ' पारिस्थितिक श्रृंखला सत्यापन उत्पादन के लिए कच्चे माल को कवर करता है, अंतरराष्ट्रीय मानक प्रमाणीकरण पारित कर चुका है, और अर्धचालक और नई ऊर्जा क्षेत्रों में इसकी विश्वसनीयता और स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए कई पेटेंट प्रौद्योगिकियां हैं।

विस्तृत तकनीकी विशिष्टताओं, श्वेत पत्रों, या नमूना परीक्षण व्यवस्थाओं के लिए, कृपया हमारी तकनीकी सहायता टीम से संपर्क करें ताकि यह पता लगाया जा सके कि वेटेक्सेमी आपकी प्रक्रिया दक्षता को कैसे बढ़ा सकता है।


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    वांग्डा रोड, ज़ियांग स्ट्रीट, वुयी काउंटी, जिंहुआ शहर, झेजियांग प्रांत, चीन

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    +86-15988690905

  • ईमेल

    anny@veteksemi.com

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