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वांग्डा रोड, ज़ियांग स्ट्रीट, वुई काउंटी, जिंघुआ सिटी, झेजियांग प्रांत, चीन
इलेक्ट्रोस्टैटिक चक (ESC), जिसे इलेक्ट्रोस्टैटिक चक (ESC, E-CHUCK) के रूप में भी जाना जाता है, एक स्थिरता है जो Adsorbed सामग्री को पकड़ने और ठीक करने के लिए इलेक्ट्रोस्टैटिक सोखना के सिद्धांत का उपयोग करता है। यह वैक्यूम और प्लाज्मा वातावरण के लिए उपयुक्त है। इसका मुख्य कार्य Adsorb अल्ट्रा-स्वच्छ पतली चादरें (जैसे कि सिलिकॉन वेफर्स) और adsorbed सामग्री को एक अच्छे सपाटता पर रखें, जो प्रक्रिया के दौरान adsorbed सामग्री के विरूपण को भी रोक सकता है और यह adsorbate के तापमान को समायोजित कर सकता है।
एक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक (ESC) एक विशेष प्रकार का चक है जो ऑब्जेक्ट्स (वर्कपीस) को पकड़ने, दबाए रखने और लेने के लिए इलेक्ट्रोस्टैटिक बल का उपयोग करता है। कोई भी सामग्री सकारात्मक और नकारात्मक शुल्क लेती है जो नग्न आंखों के लिए अदृश्य होती है। जब सामग्री को ईएससी पर रखा जाता है और ईएससी के आंतरिक इलेक्ट्रोड पर एक द्विध्रुवी वोल्टेज लागू होता है, तो सकारात्मक और नकारात्मक चार्ज ईएससी के आंतरिक इलेक्ट्रोड की ध्रुवीयता से मेल खाने के लिए सामग्री के भीतर चले जाएंगे। ईएससी और सामग्री के बीच इस आकर्षण को इलेक्ट्रोस्टैटिक बल कहा जाता है और यह हमारे चक के पीछे मौलिक सिद्धांत भी है।
इसमें एक विस्तृत ऑपरेटिंग तापमान रेंज है (-50 से 700 ℃)
इन इलेक्ट्रोस्टैटिक सक्शन कप में उत्कृष्ट शक्ति, थर्मल चालकता और थर्मल शॉक प्रतिरोध होता है, और एनजीके के मालिकाना सिरेमिक वॉल्यूम प्रतिरोधकता नियंत्रण के माध्यम से एक विस्तृत तापमान सीमा के लिए अनुकूल हो सकता है।
उच्च संक्षारण प्रतिरोध
इन इलेक्ट्रोस्टैटिक सक्शन कप में हलोजन गैसों के लिए उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध होता है।
निम्न-कण संसाधन
कम-कण उपचार सतह उपचार और विशेष सफाई के माध्यम से प्राप्त किया जा सकता है
उच्च शुद्धता
99.9% या उससे अधिक की शुद्धता वाले उत्पाद भी उपलब्ध हैं।
ऊष्मा समारोह
उच्च-सटीक ताप तत्व एम्बेडिंग तकनीक को हीटर फ़ंक्शन के साथ एकीकृत किया जा सकता है, और वेफर तापमान को ± 1%के भीतर नियंत्रित किया जा सकता है।
शीतलन समारोह
इन इलेक्ट्रोस्टैटिक सक्शन कप में उच्च तापीय चालकता और शीतलन प्लेटों के साथ सिरेमिक प्लेटों को बांधकर उच्च शीतलन प्रदर्शन होता है।
रेडियो -आवृत्ति इलेक्ट्रोड
बल्क मेटल इलेक्ट्रोड एक साथ स्थिर वेफर क्लैम्पिंग और रेडियो फ्रीक्वेंसी प्लाज्मा पीढ़ी प्रदान कर सकते हैं।
Pअराय
परियोजना |
मानक टीyपलायन पर |
हीटिंग टीyपलायन पर |
हल्का तापमानस्व-परीक्षापलायन पर |
Acceptable wafer size |
4/6/8/12 इंच |
8/12 इंच |
6/8 इंच (कम तापमान बीगलती) |
Wt orking tउत्साह |
रूम टी200 से उत्साह |
50 ℃ -300 ℃ |
-50 ℃ से 100 ℃ |
सोखना एफOrce dप्रचंडता |
± ± 2% |
± ± 1.5% |
± ± 3% |
आधार पीदेर |
Aरोशनी ओXide cमिट्टी के पात्र |
Aल्यूमिनियम एनitride cमिट्टी के पात्र |
मिश्रित सीeramic + mएटल सीओलिंग सीव्यापार |
1.अर्धचालक और इलेक्ट्रॉनिक विनिर्माण के क्षेत्र में: अर्धचालक और इलेक्ट्रॉनिक विनिर्माण प्रक्रियाओं के दौरान, इलेक्ट्रोस्टैटिक सक्शन कप का उपयोग पतले और नाजुक सिलिकॉन वेफर्स, वेफर्स, आदि को ठीक करने और संभालने के लिए किया जाता है, इसके फायदे मजबूत सोखना बल, कोई यांत्रिक तनाव और सरल संचालन में झूठ बोलते हैं, जो प्रभावी रूप से उत्पादन दक्षता और उत्पाद गुणवत्ता में सुधार करता है।
2। ग्लास और सिरेमिक उद्योग: कांच और सिरेमिक की कटिंग, पीसने और संभालने की प्रक्रियाओं के दौरान, इलेक्ट्रोस्टैटिक सक्शन कप भंगुर सामग्री पर गैर-विनाशकारी संचालन कर सकते हैं, उत्पाद टूटने की दर को कम कर सकते हैं।
3। सटीक मशीनरी और ऑप्टिकल घटकों का निर्माण: सटीक मशीनरी और ऑप्टिकल घटकों के लिए, इलेक्ट्रोस्टैटिक सक्शन कप स्थिर सोखना बल प्रदान कर सकते हैं, प्रसंस्करण के दौरान विरूपण या खरोंच को रोक सकते हैं।
4। स्वचालित उत्पादन लाइनें: स्वचालित उत्पादन लाइनों में, इलेक्ट्रोस्टैटिक सक्शन कप का उपयोग व्यापक रूप से भागों की स्थिति, हैंडलिंग और विधानसभा में किया जाता है, आदि, उत्पादन लाइन की स्वचालन और दक्षता की डिग्री बढ़ाते हैं।
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