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LPE PE2061S के लिए Sic लेपित शीर्ष प्लेट
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LPE PE2061S के लिए Sic लेपित शीर्ष प्लेट

Vetek सेमीकंडक्टर कई वर्षों से SIC कोटिंग उत्पादों में गहराई से जुड़ा हुआ है और चीन में LPE PE2061S के लिए SIC लेपित शीर्ष प्लेट के एक प्रमुख निर्माता और आपूर्तिकर्ता बन गया है। LPE PE2061S के लिए SIC कोटेड टॉप प्लेट हम प्रदान करते हैं, जो LPE सिलिकॉन एपिटैक्सियल रिएक्टरों के लिए डिज़ाइन किया गया है और बैरल बेस के साथ शीर्ष पर स्थित है। LPE PE2061S के लिए इस SIC कोटेड टॉप प्लेट में उच्च शुद्धता, उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता और एकरूपता जैसी उत्कृष्ट विशेषताएं हैं, जो उच्च गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल परतों को विकसित करने में मदद करती है। कोई फर्क नहीं पड़ता कि आपको किस उत्पाद की आवश्यकता है, हम आपकी जांच के लिए तत्पर हैं।

Vetek सेमीकंडक्टर LPE PE2061S निर्माता और आपूर्तिकर्ता के लिए एक पेशेवर चीन SIC कोटेड टॉप प्लेट है।

सिलिकॉन एपिटैक्सियल उपकरणों में LPE PE2061S के लिए Vetek सेमीकंडक्टर Sic कोटेड टॉप प्लेट, एपिटैक्सियल ग्रोथ प्रक्रिया के दौरान एपिटैक्सियल वेफर्स (या सब्सट्रेट) का समर्थन करने और पकड़ने के लिए बैरल प्रकार के बॉडी सूस्वियों के साथ संयोजन में उपयोग किया जाता है।

LPE PE2061s के लिए SIC कोटेड टॉप प्लेट आमतौर पर उच्च तापमान वाली स्थिर ग्रेफाइट सामग्री से बना है। वेटेक सेमीकंडक्टर सावधानीपूर्वक थर्मल विस्तार गुणांक जैसे कारकों पर विचार करता है जब सबसे उपयुक्त ग्रेफाइट सामग्री का चयन करते हैं, तो सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग के साथ एक मजबूत बंधन सुनिश्चित करते हैं।

LPE PE2061S के लिए SIC लेपित शीर्ष प्लेट एपिटैक्सी वृद्धि के दौरान उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण को झेलने के लिए उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता और रासायनिक प्रतिरोध को प्रदर्शित करता है। यह वेफर्स की दीर्घकालिक स्थिरता, विश्वसनीयता और संरक्षण सुनिश्चित करता है।

सिलिकॉन एपिटैक्सियल उपकरण में, पूरे सीवीडी SiC लेपित रिएक्टर का प्राथमिक कार्य वेफर्स का समर्थन करना और एपिटैक्सियल परतों के विकास के लिए एक समान सब्सट्रेट सतह प्रदान करना है। इसके अतिरिक्त, यह वेफर्स की स्थिति और अभिविन्यास में समायोजन की अनुमति देता है, जिससे वांछित विकास स्थितियों और एपिटैक्सियल परत विशेषताओं को प्राप्त करने के लिए विकास प्रक्रिया के दौरान तापमान और द्रव गतिशीलता पर नियंत्रण की सुविधा मिलती है।

वीटेक सेमीकंडक्टर के उत्पाद उच्च परिशुद्धता और समान कोटिंग मोटाई प्रदान करते हैं। बफर परत को शामिल करने से उत्पाद का जीवनकाल भी बढ़ जाता है। सिलिकॉन एपिटैक्सियल उपकरण में, एपिटैक्सियल विकास प्रक्रिया के दौरान एपिटैक्सियल वेफर्स (या सबस्ट्रेट्स) को सहारा देने और पकड़ने के लिए बैरल-प्रकार के बॉडी ससेप्टर के साथ संयोजन में उपयोग किया जाता है।


CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE


सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण:

सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण
संपत्ति विशिष्ट मूल्य
क्रिस्टल की संरचना एफसीसी β चरण पॉलीक्रिस्टलाइन, मुख्य रूप से (111) उन्मुख
घनत्व 3.21 ग्राम/सेमी³
कठोरता 2500 विकर्स कठोरता (500g लोड)
अनाज आकार 2 ~ 10 मिमी
रासायनिक शुद्धता 99.99995%
ताप की गुंजाइश 640 जे·किग्रा-1·के-1
उर्ध्वपातन तापमान 2700 ℃
आनमनी सार्मथ्य 415 एमपीए आरटी 4-पॉइंट
यंग मापांक 430 GPA 4pt बेंड, 1300 ℃
ऊष्मीय चालकता 300W · एम-1·के-1
थर्मल विस्तार (सीटीई) 4.5×10-6K-1


वीटेक सेमीकंडक्टर प्रोडक्शन शॉप

VeTek Semiconductor Production Shop


सेमीकंडक्टर चिप एपिटैक्सी उद्योग श्रृंखला का अवलोकन:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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    +86-18069220752

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    anny@veteksemi.com

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