Sic लेपित ग्रहों की गान

Sic लेपित ग्रहों के लिए एक ग्रह वाहक के साथ लेपित एक ग्रह वाहक हैसिलिकॉन कार्बाइड (एसआईसी), जो मुख्य रूप से सेमीकंडक्टर सामग्री जमाव की प्रक्रियाओं में उपयोग किया जाता है जैसे कि धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (MOCVD), आणविक बीम एपिटैक्सी (MBE), आदि। इसका मुख्य कार्य बयान प्रक्रिया के दौरान भौतिक एकरूपता और थर्मल क्षेत्र स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए वेफर्स को ले जाना और घुमाना है। इसका मुख्य कार्य बयान के दौरान भौतिक एकरूपता और थर्मल क्षेत्र की स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए वेफर्स को ले जाना और घुमाना है, और एसआईसी कोटिंग वाहक को उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध और उच्च-सटीक अर्धचालक के लिए थर्मल चालकता प्रदान करता हैवफ़रप्रसंस्करण।

SIC कोटेड ग्रहों के लिए मुख्य अनुप्रयोग परिदृश्य

Mocvd epitaxial विकास प्रक्रिया

MOCVD प्रक्रिया में, SIC कोटेड प्लैनेटरी सूसोसेक का उपयोग मुख्य रूप से सिलिकॉन (SI), सिलिकॉन कार्बाइड (SIC), गैलियम नाइट्राइड (GAN), गैलियम आर्सेनाइड (GAAS) और अन्य सामग्रियों के वेफर्स को ले जाने के लिए किया जाता है।

● कार्यात्मक आवश्यकताएँ: वेफर सतह पर वाष्प-जमा सामग्री के समान वितरण को सुनिश्चित करने और फिल्म की मोटाई और रचना की एकरूपता को बढ़ाने के लिए वेफर्स के सटीक स्थिति और सिंक्रनाइज़ रोटेशन।

● फ़ायदा: एसआईसी कोटिंग्स अत्यधिक संक्षारण-प्रतिरोधी हैं और ट्राइमेथाइलगैलियम (टीएमजीए) और ट्राइमिथाइलिंडियम (टीएमएम) जैसे अत्यधिक प्रतिक्रियाशील धातु-कार्बनिक अग्रदूतों के कटाव का सामना कर सकते हैं, जो उनके सेवा जीवन का विस्तार करते हैं।

सिलिकॉन कार्बाइड (एसआईसी) बिजली उपकरण निर्माण

SIC कोटेड प्लैनेटरी सूसो का उपयोग व्यापक रूप से SIC बिजली उपकरणों के एपिटैक्सियल विकास में किया जाता है, जैसे कि MOSFET, IGBT, SBD और अन्य उपकरण।

● कार्यात्मक आवश्यकताएँ: एपिटैक्सियल लेयर क्रिस्टलीकरण गुणवत्ता और दोष नियंत्रण सुनिश्चित करने के लिए उच्च तापमान वातावरण में एक स्थिर थर्मल समीकरण मंच प्रदान करें।

● फ़ायदा: एसआईसी कोटिंग्स उच्च तापमान (> 1600 डिग्री सेल्सियस) के लिए प्रतिरोधी हैं और सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स के करीब थर्मल विस्तार (4.0 × 10^-6 के^-1) का गुणांक है, जो प्रभावी रूप से थर्मल तनाव को कम करता है और एपिटैक्सियल परत की गुणवत्ता और स्थिरता में सुधार करता है।

गहरी पराबैंगनी (DUV) और पराबैंगनी एलईडी एपिटैक्सियल विनिर्माण

SIC कोटेड प्लैनेटरी सूसिएटर गैलियम नाइट्राइड (GAN) और एल्यूमीनियम गैलियम नाइट्राइड (ALGAN) जैसी सामग्रियों के एपिटैक्सियल विकास के लिए उपयुक्त है, और इसका व्यापक रूप से यूवी-एलईडी और माइक्रो एल ई डी के निर्माण में उपयोग किया जाता है।

● कार्यात्मक आवश्यकताएँ: तरंग दैर्ध्य सटीकता और डिवाइस प्रदर्शन सुनिश्चित करने के लिए सटीक तापमान नियंत्रण और समान एयरफ्लो वितरण बनाए रखें।

● फ़ायदा: उच्च तापीय चालकता और ऑक्सीकरण प्रतिरोध ऑपरेशन के लंबे समय तक उच्च तापमान पर उत्कृष्ट स्थिरता के लिए अनुमति देता है, जिससे एलईडी चिप्स की चमकदार दक्षता और स्थिरता में सुधार करने में मदद मिलती है।

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