रासायनिक वाष्प जमाव प्रक्रिया ठोस sic एज अंगूठी

सीवीडी प्रक्रिया ठोस sic एज अंगूठी:

● सामग्री: फोकसिंग रिंग ठोस SIC, एक उच्च शुद्धता और उच्च-प्रदर्शन वाली सिरेमिक सामग्री से निर्मित होती है। यह रासायनिक वाष्प बयान द्वारा तैयार किया जाता है। ठोस एसआईसी सामग्री असाधारण स्थायित्व, उच्च तापमान प्रतिरोध और उत्कृष्ट यांत्रिक गुण प्रदान करती है।

●  लाभ: सीवीडी एसआईसी रिंग बकाया थर्मल स्थिरता प्रदान करता है, जो सूखी ईच प्रक्रियाओं में सामना की गई उच्च तापमान स्थितियों के तहत भी इसकी संरचनात्मक अखंडता को बनाए रखता है। इसकी उच्च कठोरता यांत्रिक तनाव और पहनने के लिए प्रतिरोध सुनिश्चित करती है, जिससे विस्तारित सेवा जीवन होता है। इसके अलावा, ठोस एसआईसी रासायनिक जड़ता को प्रदर्शित करता है, इसे जंग से बचाता है और समय के साथ इसके प्रदर्शन को बनाए रखता है।

CVD SIC कोटिंग:

●  सामग्री: CVD SIC कोटिंग रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) तकनीकों का उपयोग करके SIC की एक पतली फिल्म बयान है। कोटिंग को एक सब्सट्रेट सामग्री पर लागू किया जाता है, जैसे कि ग्रेफाइट या सिलिकॉन, सतह को SIC गुण प्रदान करने के लिए।

●  तुलना: जबकि सीवीडी एसआईसी कोटिंग्स कुछ फायदे प्रदान करते हैं, जैसे कि जटिल आकृतियों और ट्यून करने योग्य फिल्म गुणों पर अनुरूप बयान, वे ठोस एसआईसी की मजबूती और प्रदर्शन से मेल नहीं खा सकते हैं। कोटिंग की मोटाई, क्रिस्टलीय संरचना और सतह खुरदरापन सीवीडी प्रक्रिया मापदंडों के आधार पर भिन्न हो सकता है, संभवतः कोटिंग के स्थायित्व और समग्र प्रदर्शन को प्रभावित करता है।

सारांश में, Vetek सेमीकंडक्टर सॉलिड SIC फोकसिंग रिंग सूखी Etch अनुप्रयोगों के लिए एक असाधारण विकल्प है। इसकी ठोस एसआईसी सामग्री उच्च तापमान प्रतिरोध, उत्कृष्ट कठोरता और रासायनिक जड़ता सुनिश्चित करती है, जिससे यह एक विश्वसनीय और लंबे समय तक चलने वाला समाधान बन जाता है। जबकि CVD SIC कोटिंग बयान में लचीलापन प्रदान करता है, CVD SIC रिंग रिंग एक्सेल प्रदान करता है, जो सूखी Etch प्रक्रियाओं की मांग के लिए आवश्यक रूप से स्थायित्व और प्रदर्शन प्रदान करता है।

ठोस sic के भौतिक गुण