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ठोस sic etching फोकसिंग रिंग
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ठोस sic etching फोकसिंग रिंग

सॉलिड SiC नक़्क़ाशी फ़ोकसिंग रिंग वेफ़र नक़्क़ाशी प्रक्रिया के मुख्य घटकों में से एक है, जो वेफ़र को ठीक करने, प्लाज्मा को केंद्रित करने और वेफ़र नक़्क़ाशी की एकरूपता में सुधार करने में भूमिका निभाता है। चीन में अग्रणी SiC फोकसिंग रिंग निर्माता के रूप में, VeTek सेमीकंडक्टर के पास उन्नत तकनीक और परिपक्व प्रक्रिया है, और यह सॉलिड SiC एचिंग फोकसिंग रिंग का निर्माण करता है जो ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार अंतिम ग्राहकों की जरूरतों को पूरी तरह से पूरा करता है। हम आपकी पूछताछ और एक-दूसरे के दीर्घकालिक भागीदार बनने के लिए उत्सुक हैं।

वेटेक सेमीकंडक्टर ने सीवीडी ठोस एसआईसी तकनीक में बहुत प्रगति की है और अब यह विश्व-अग्रणी स्तर के साथ ठोस एसआईसी नक़्क़ाशी फोकसिंग रिंग का उत्पादन करने में सक्षम है। Vetek सेमीकंडक्टर की ठोस sic etching फोकसिंग रिंग एक अल्ट्रा-हाई प्यूरीिटी सिलिकॉन कार्बाइड सामग्री उत्पाद है जो रासायनिक वाष्प जमाव की प्रक्रिया के माध्यम से बनाई गई है।

ठोस sic etching फोकसिंग रिंग का उपयोग अर्धचालक विनिर्माण प्रक्रियाओं में किया जाता है, विशेष रूप से प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रणालियों में। एसआईसी फोकस रिंग एक महत्वपूर्ण घटक है जो सिलिकॉन कार्बाइड (एसआईसी) वेफर्स के सटीक और नियंत्रित नक़्क़ाशी को प्राप्त करने में मदद करता है।


प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रक्रिया के दौरान, फोकस रिंग कई भूमिकाएँ निभाती है जो निम्नलिखित हैं:

● प्लाज्मा पर फोकस करना: ठोस SiC नक़्क़ाशी फोकसिंग रिंग वेफर के चारों ओर प्लाज्मा को आकार देने और केंद्रित करने में मदद करती है, जिससे यह सुनिश्चित होता है कि नक़्क़ाशी प्रक्रिया समान रूप से और कुशलता से होती है। यह प्लाज़्मा को वांछित क्षेत्र तक सीमित रखने में मदद करता है, आसपास के क्षेत्रों में बिखरी नक़्क़ाशी या क्षति को रोकता है।

●  चैम्बर की दीवारों की सुरक्षा करना: फोकसिंग रिंग प्लाज्मा और चैम्बर की दीवारों के बीच एक बाधा के रूप में कार्य करती है, जो सीधे संपर्क और संभावित क्षति को रोकती है। SiC प्लाज्मा क्षरण के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी है और चैम्बर की दीवारों के लिए उत्कृष्ट सुरक्षा प्रदान करता है।

●  Tउत्साह नियंत्रण: एसआईसी फोकस रिंग रिंग एड्स में नक़्क़ाशी प्रक्रिया के दौरान वेफर में समान तापमान वितरण को बनाए रखने में एड्स। यह गर्मी को फैलाने में मदद करता है और स्थानीयकृत ओवरहीटिंग या थर्मल ग्रेडिएंट को रोकता है जो नक़्क़ाशी के परिणामों को प्रभावित कर सकता है।


Solid SiC Etching Focusing Ring in Plasma Etching Equipment


ठोस एसआईसी को इसके उत्कृष्ट थर्मल और रासायनिक स्थिरता, उच्च यांत्रिक शक्ति और प्लाज्मा कटाव के प्रतिरोध के कारण छल्ले पर ध्यान केंद्रित करने के लिए चुना जाता है। ये गुण Sic को प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रणालियों के अंदर कठोर और मांग की स्थिति के लिए एक उपयुक्त सामग्री बनाते हैं।


यह ध्यान देने योग्य है कि ध्यान केंद्रित करने वाले छल्ले के डिजाइन और विनिर्देश विशिष्ट प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रणाली और प्रक्रिया आवश्यकताओं के आधार पर भिन्न हो सकते हैं। वेटेक सेमीकंडक्टर इष्टतम नक़्क़ाशी प्रदर्शन और दीर्घायु सुनिश्चित करने के लिए रिंगों पर ध्यान केंद्रित करने के आकार, आयामों और सतह विशेषताओं का अनुकूलन करता है। ठोस SIC व्यापक रूप से वेफर वाहक, समझदार, डमी वेफर, गाइड रिंग्स, नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए भागों, सीवीडी प्रक्रिया, आदि के लिए उपयोग किया जाता है।


ठोस sic etching फोकस रिंग का उत्पाद पैरामीटर


ठोस SiC के भौतिक गुण
घनत्व 3.21 जी/सेमी3
विद्युत प्रतिरोधकता 102 Ω/सेमी
आनमनी सार्मथ्य 590 एमपीए (6000 किग्रा/सेमी2)
यंग मापांक 450 जीपीए (6000kgf/मिमी2)
विकर्स कठोरता 26 जीपीए (2650 किग्रा/मिमी2)
सी.टी.ई.(आरटी-1000℃) 4.0 X10-6/के
थर्मल चालकता (आरटी) 250 डब्ल्यू/एमके


वीटेक सेमीकंडक्टर प्रोडक्शन शॉप


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