Vetek सेमीकंडक्टर CVD SIC कोटिंग बैरल सुस्पेक्टर बैरल प्रकार के एपिटैक्सियल भट्ठी का मुख्य घटक है। CVD SIC कोटिंग बैरल सूसोसेप्टर की मदद के साथ, एपिटैक्सियल ग्रोथ की मात्रा और गुणवत्ता में बहुत सुधार हुआ है। सेमीकंडक्टर सेमीकंडक्टर उद्योग में आपके साथ एक करीबी सहकारी संबंध स्थापित करने के लिए तत्पर है।
एपिटैक्सी ग्रोथ एक सिंगल क्रिस्टल सब्सट्रेट (सब्सट्रेट) पर एक सिंगल क्रिस्टल फिल्म (सिंगल क्रिस्टल लेयर) बढ़ने की प्रक्रिया है। इस सिंगल क्रिस्टल फिल्म को एपिलैयर कहा जाता है। जब एपिलैयर और सब्सट्रेट एक ही सामग्री से बने होते हैं, तो इसे होमोएपिटैक्सियल ग्रोथ कहा जाता है; जब वे अलग -अलग सामग्रियों से बने होते हैं, तो इसे हेटेरोएपिटैक्सियल ग्रोथ कहा जाता है।
एपिटैक्सियल रिएक्शन चैंबर की संरचना के अनुसार, दो प्रकार हैं: क्षैतिज और ऊर्ध्वाधर। ऊर्ध्वाधर एपिटैक्सियल भट्ठी का सुसमाचार संचालन के दौरान लगातार घूमता है, इसलिए इसमें अच्छी एकरूपता और बड़ी उत्पादन मात्रा होती है, और मुख्यधारा के एपिटैक्सियल ग्रोथ सॉल्यूशन बन गया है। सीवीडी एसआईसी कोटिंग बैरल सूसोसेक्टर बैरल प्रकार के एपिटैक्सियल भट्ठी का मुख्य घटक है। और वेटेक सेमीकंडक्टर ईपीआई के लिए एसआईसी कोटेड ग्रेफाइट बैरल सूसोसेप्टर का उत्पादन विशेषज्ञ है।
MOCVD और HVPE जैसे एपिटैक्सियल ग्रोथ उपकरणों में, SIC लेपित ग्रेफाइट बैरल सूसोसेप्टर्स का उपयोग वेफर को ठीक करने के लिए किया जाता है ताकि यह सुनिश्चित किया जा सके कि यह विकास प्रक्रिया के दौरान स्थिर रहता है। वेफर को बैरल प्रकार के सूसोसेक पर रखा जाता है। जैसे -जैसे उत्पादन प्रक्रिया आगे बढ़ती है, सूस्विनर समान रूप से वेफर को गर्म करने के लिए लगातार घूमता है, जबकि वेफर सतह प्रतिक्रिया गैस प्रवाह के संपर्क में है, अंततः समान एपिटैक्सियल विकास को प्राप्त करता है।
सीवीडी एसआईसी कोटिंग बैरल प्रकार के सूसोसेप्टर योजनाबद्ध
एपिटैक्सियल ग्रोथ भट्ठी एक उच्च तापमान वाला वातावरण है जो संक्षारक गैसों से भरा है। इस तरह के एक कठोर वातावरण को दूर करने के लिए, वेटेक सेमीकंडक्टर ने सीवीडी विधि के माध्यम से ग्रेफाइट बैरल सूसोसेप्टर के लिए एसआईसी कोटिंग की एक परत को जोड़ा, इस प्रकार एक एसआईसी कोटेड ग्रेफाइट बैरल सूसवाणी प्राप्त किया
संरचनात्मक विशेषताएं:
● समान तापमान वितरण: बैरल के आकार की संरचना गर्मी को अधिक समान रूप से वितरित कर सकती है और स्थानीय ओवरहीटिंग या कूलिंग के कारण वेफर के तनाव या विरूपण से बच सकती है।
● एयरफ्लो की गड़बड़ी को कम करें: बैरल के आकार के सस्पेक्टर का डिज़ाइन रिएक्शन चैंबर में एयरफ्लो के वितरण को अनुकूलित कर सकता है, जिससे गैस वेफर की सतह पर सुचारू रूप से प्रवाहित कर सकती है, जो एक फ्लैट और समान एपिटैक्सियल परत उत्पन्न करने में मदद करती है।
● रोटेशन तंत्र: बैरल के आकार के सांसारिक के रोटेशन तंत्र में मोटाई की स्थिरता और एपिटैक्सियल परत की भौतिक गुणों में सुधार होता है।
● बड़े पैमाने पर उत्पादन: बैरल के आकार का सुसज्जित करने वाला बड़े वेफर्स को ले जाने के दौरान अपनी संरचनात्मक स्थिरता बनाए रख सकता है, जैसे कि 200 मिमी या 300 मिमी वेफर्स, जो बड़े पैमाने पर बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए उपयुक्त है।
Vetek सेमीकंडक्टर CVD SIC कोटिंग बैरल प्रकार के SUSCECTOR उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट और CVD SIC कोटिंग से बना है, जो एक संक्षारक गैस वातावरण में लंबे समय तक काम करने में सक्षम बनाता है और इसमें अच्छी तापीय चालकता और स्थिर यांत्रिक समर्थन होता है। सुनिश्चित करें कि वेफर को समान रूप से गरम किया जाता है और सटीक एपिटैक्सियल विकास प्राप्त होता है।
सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण
सीवीडी एसआईसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण
संपत्ति
विशिष्ट मूल्य
क्रिस्टल की संरचना
एफसीसी β चरण पॉलीक्रिस्टलाइन, मुख्य रूप से (111) उन्मुख
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