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एलपीई रिएक्शन चैंबर के लिए हाफमून
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एलपीई रिएक्शन चैंबर के लिए हाफमून

हाफमून एक ग्रेफाइट घटक है जिसका उपयोग एलपीई सीआईसी रिएक्टरों के अंदर किया जाता है, जो मुख्य रूप से चैम्बर हॉट जोन के आसपास स्थापित होता है। यद्यपि यह सीधे वेफर से संपर्क नहीं करता है, फिर भी यह एपिटैक्सियल विकास के दौरान गैस प्रवाह स्थिरता और रिएक्टर संचालन में भूमिका निभाता है। उच्च तापमान और प्रतिक्रियाशील प्रक्रिया स्थितियों को संभालने के लिए, घटक को आमतौर पर सीवीडी SiC कोटिंग के साथ संरक्षित किया जाता है, जबकि TaC कोटिंग कुछ अनुप्रयोगों के लिए भी उपलब्ध है। VETEK SiC एपिटैक्सी सिस्टम के लिए ग्रेफाइट फेल्ट इंसुलेशन और अन्य लेपित ग्रेफाइट भागों की भी आपूर्ति करता है।

एलपीई रिएक्शन चैंबर में हाफमून क्या है?

Halfmoon in an LPE Reaction Chamber Diagram

कई एलपीई क्षैतिज रिएक्टरों में, हाफमून आंतरिक कक्ष असेंबली का हिस्सा है। विभिन्न उपकरण निर्माता थोड़ी भिन्न संरचनाओं का उपयोग कर सकते हैं, लेकिन कार्य आम तौर पर समान होता है। घटक को आमतौर पर ऊपरी और निचले वर्गों में विभाजित किया जाता है:

  • अपर हाफमून:ऊपरी हिस्सा मुख्य रूप से रिएक्टर के अंदर एक सहायक संरचना के रूप में काम करता है। चूंकि यह लंबे समय तक उच्च तापमान प्रक्रिया क्षेत्र के करीब रहता है, इसलिए सामग्री को बार-बार थर्मल चक्रों के बाद स्पष्ट विरूपण के बिना स्थिर रहने की आवश्यकता होती है। एक अन्य महत्वपूर्ण बिंदु रासायनिक स्थिरता है। SiC एपिटैक्सी के दौरान, चैम्बर वातावरण में प्रतिक्रियाशील गैसें होती हैं, इसलिए ग्रेफाइट सतह को उचित रूप से संरक्षित किया जाना चाहिए।
  • निचला हाफमून:निचला भाग क्वार्ट्ज ट्यूब क्षेत्र और घूमने वाली असेंबली के पास जुड़ा हुआ है। यह एपीटैक्सियल वृद्धि के दौरान गैस परिचय और यांत्रिक सहायता में शामिल है। सामान्य ग्रेफाइट संरचनात्मक भागों की तुलना में, निचले हाफमून को आमतौर पर रिएक्टर संचालन के दौरान निरंतर हीटिंग और शीतलन के कारण ऑक्सीकरण प्रतिरोध और थर्मल शॉक स्थिरता के लिए उच्च आवश्यकताओं का सामना करना पड़ता है।


एलपीई रिएक्शन चैंबर के लिए वीटेक हाफमून की मुख्य विशेषताएं


1. उच्च शुद्धता ग्रेफाइट सब्सट्रेट

आधार सामग्री अर्धचालक प्रक्रिया वातावरण के लिए उपयुक्त उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट है। SiC एपिटैक्सी में सामग्री की शुद्धता महत्वपूर्ण है क्योंकि धातु संदूषण क्रिस्टल विकास स्थिरता और फिल्म की गुणवत्ता को प्रभावित कर सकता है। VETEK इस एप्लिकेशन के लिए नियंत्रित अशुद्धता स्तर के साथ शुद्ध ग्रेफाइट सामग्री का उपयोग करता है।


2. उन्नत सीवीडी SiC और TaC कोटिंग

उच्च तापमान प्रक्रिया स्थितियों के तहत सतह की सुरक्षा में सुधार के लिए अधिकांश हाफमून घटकों को सीवीडी SiC के साथ लेपित किया जाता है। अधिक मांग वाले वातावरण के लिए, TaC कोटिंग भी उपलब्ध है। लेपित संरचनाओं के विशिष्ट लाभों में शामिल हैं:

  • संक्षारक प्रक्रिया गैसों के प्रति बेहतर प्रतिरोध
  • निम्न कण पीढ़ी
  • बेहतर सतह स्थायित्व
  • थर्मल साइक्लिंग के दौरान बेहतर स्थिरता

 

व्यावहारिक उपयोग में, कोटिंग का चयन आमतौर पर रिएक्टर तापमान, प्रक्रिया रसायन विज्ञान और अपेक्षित सेवा जीवनकाल पर निर्भर करता है।


3. उत्कृष्ट तापीय स्थिरता

उच्च तापमान वाले अर्धचालक प्रसंस्करण वातावरण के लिए डिज़ाइन किया गया, VETEK हाफमून लंबे समय तक एपिटैक्सियल चक्रों के दौरान आयामी स्थिरता और संरचनात्मक अखंडता बनाए रखता है, जो इसे LPE और MOCVD उपकरणों के लिए अत्यधिक उपयुक्त बनाता है।


4. परिशुद्धता सीएनसी मशीनिंग

VETEK के पास माइक्रोन-स्तरीय आयामी नियंत्रण के साथ उन्नत सीएनसी सटीक मशीनिंग क्षमताएं हैं, जो जटिल एलपीई रिएक्टर संरचनाओं और अनुकूलित उपकरण आवश्यकताओं के साथ उत्कृष्ट संगतता सुनिश्चित करती है।


5. लंबी सेवा जीवन

अनुकूलित कोटिंग आसंजन प्रौद्योगिकी और उच्च शुद्धता सामग्री प्रसंस्करण के माध्यम से, VETEK हाफमून घटक बार-बार थर्मल साइक्लिंग और संक्षारक प्रक्रिया गैसों के तहत उत्कृष्ट स्थायित्व प्रदर्शित करते हैं, रखरखाव आवृत्ति और कुल परिचालन लागत को कम करते हैं।


तकनीकी लाभ

विशेषता
वेटेक हाफमून
मूलभूत सामग्री
उच्च शुद्धता ग्रेफाइट
सतह का उपचार
CVD SiC कोटिंग/वैकल्पिक TaC कोटिंग
परिचालन तापमान
2000°C+ तक
कोटिंग की मोटाई
50 - 200 μm (समायोज्य)
कोटिंग की शुद्धता
>99.99999%
आवेदन
SiC एपिटैक्सी/एलपीई रिएक्टर
तापमान प्रतिरोध
उत्कृष्ट उच्च तापमान स्थिरता
संक्षारण प्रतिरोध
असाधारण
कोटिंग एकरूपता
उच्च परिशुद्धता नियंत्रण
कण नियंत्रण
कम कण उत्पादन
अनुकूलन
उपलब्ध
उपकरण अनुकूलता
एलपीई / अनुकूलित सिस्टम


अनुप्रयोग


एलपीई रिएक्शन चैंबर के लिए VETEK हाफमून का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है:

  • सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) एपिटैक्सी सिस्टम
  • एलपीई क्षैतिज रिएक्टर
  • सेमीकंडक्टर एपिटैक्सियल ग्रोथ उपकरण
  • उच्च तापमान सीवीडी प्रक्रिया कक्ष
  • उन्नत सेमीकंडक्टर थर्मल फील्ड सिस्टम
  • SiC क्रिस्टल विकास प्रणाली
  • तीसरी पीढ़ी के अर्धचालक विनिर्माण

हमारे उत्पाद कई उद्योग मुख्यधारा उपकरण प्लेटफार्मों के साथ संगत हैं और ग्राहक चित्र या रिएक्टर विनिर्देशों के अनुसार अनुकूलित किए जा सकते हैं।


VETEK सेमीकंडक्टर क्यों चुनें?


VETEK सेमीकंडक्टर कई वर्षों से सेमीकंडक्टर ग्रेफाइट घटकों और कोटिंग प्रौद्योगिकियों पर ध्यान केंद्रित कर रहा है। 2016 से, कंपनी ने सेमीकंडक्टर अनुप्रयोगों के लिए शुद्धिकरण प्रसंस्करण, सटीक ग्रेफाइट मशीनिंग और सीवीडी कोटिंग उत्पादन में अपनी क्षमताओं का विकास जारी रखा है।

VETEK क्षमताएँ:

  • SiC एपिटैक्सी घटकों और रिएक्टर भागों के साथ अनुभव
  • इन-हाउस CVD SiC और TaC कोटिंग उत्पादन
  • सेमीकंडक्टर-स्तरीय सामग्री शुद्धिकरण नियंत्रण
  • चित्र या नमूने के आधार पर कस्टम विनिर्माण
  • बैच ऑर्डर के लिए स्थिर उत्पादन क्षमता
  • ग्रेफाइट फेल्ट और थर्मल फील्ड सामग्री की आपूर्ति
  • ISO9001 गुणवत्ता प्रबंधन प्रणाली
  • विदेशी ग्राहकों के लिए तकनीकी सहायता


अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न


(1) एलपीई रिएक्टर में हाफमून का क्या कार्य है?

हाफमून घटक एपिटैक्सियल प्रतिक्रिया कक्ष के अंदर गैस प्रवाह मार्गदर्शन, कक्ष संरचना एकीकरण, तापमान प्रबंधन और रिसेप्टर रोटेशन का समर्थन करता है।

(2) क्या हाफमून वेफर के सीधे संपर्क में है?

सामान्यतः नहीं. अधिकांश एलपीई रिएक्टर संरचनाओं में, हाफमून सीधे वेफर को छूने के बजाय चैम्बर असेंबली के आसपास रहता है।

(3) सतह पर SiC या TaC कोटिंग का उपयोग क्यों करें?

कोटिंग मुख्य रूप से सुरक्षा के लिए है। SiC एपिटैक्सी के दौरान, ग्रेफाइट भाग लंबे समय तक उच्च तापमान और प्रतिक्रियाशील गैसों के संपर्क में रहते हैं। कोटिंग ऑक्सीकरण प्रतिरोध में सुधार करने में मदद करती है और सतह के घिसाव और कण उत्पादन को कम करती है।

(4) क्या भाग को अनुकूलित किया जा सकता है?

हाँ। अधिकांश हाफमून हिस्से वास्तव में रिएक्टर संरचना और ग्राहक के चित्र के अनुसार बनाए जाते हैं, क्योंकि आयाम और स्थापना विवरण अक्सर उपकरण प्लेटफार्मों के बीच भिन्न होते हैं।

  

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    anny@veteksemi.com

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