अर्धचालक सिरेमिक नोजल

अर्धचालक सिरेमिक नोजल में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाता हैएचडीपी-सीवीडी प्रक्रिया, गैस प्रवाह को सटीक रूप से नियंत्रित करने और सुनिश्चित करने के लिए उपयोग किया जाता हैउच्च गुणवत्ता वाली फिल्म जमाव। सिरेमिक नोजल स्प्रे लगातार और नियंत्रणीय गैस प्रवाह दरों को सुनिश्चित करने के लिए ठीक से इंजीनियर है, जब गैस प्रतिक्रिया कक्ष में प्रवेश करती है, तो संभव अशांति को कम करती है।

तकनीकी निर्देश:

1. सामग्री की रचना:

VeTeK सेमीकंडक्टर सिरेमिक रेत ब्लास्टिंग नोजल आमतौर पर एल्यूमीनियम ऑक्साइड (Al2O3) जैसे सेमीकंडक्टर सिरेमिक से बने होते हैं।सिलिकॉन कार्बाइड (एसआईसी), या जिरकोनियम ऑक्साइड (ZrO2), इन सामग्रियों में उत्कृष्ट गुण हैं:

    • उच्च तापीय स्थिरता (1000℃ से ऊपर तापमान का सामना कर सकता है)

    • प्रयुक्त प्रतिक्रियाशील गैसों द्वारा संक्षारण का प्रतिरोधसीवीडी प्रक्रियाएं(जैसे सिलेन, अमोनिया)

    • निरंतर प्लाज्मा एक्सपोज़र का प्रतिरोध।

2. संरचनात्मक डिजाइन:

    • छिद्र आकार: सेमीकंडक्टर सिरेमिक नोजल का छिद्र वैज्ञानिक रूप से गैस प्रवाह के सटीक नियंत्रण को सक्षम करने के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो बदले में फिल्म की एकरूपता और मोटाई को प्रभावित करता है।

    • कोण और ज्यामिति: सब्सट्रेट में समान गैस वितरण सुनिश्चित करने, जमा परत में दोषों को कम करने के लिए सटीक रूप से डिज़ाइन किया गया है।

सेमीकंडक्टर उद्योग में, सेमीकंडक्टर सिरेमिक ब्लास्ट नोजल मुख्य रूप से एचडीपी-सीवीडी प्रक्रिया में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं। उनका उपयोग माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स के उत्पादन के लिए पतली फिल्मों को जमा करने के लिए भी किया जाता है, उच्च गुणवत्ता वाले सतह कोटिंग्स सुनिश्चित करता है जो एक समान और दूषित पदार्थों से मुक्त होते हैं।

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