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सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक
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सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक

सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक का उपयोग व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर विनिर्माण में किया जाता है और वेफर्स को ठीक करने के लिए प्रसंस्करण होता है। यह उच्च परिशुद्धता वेफर प्रसंस्करण के लिए एक अपरिहार्य उपकरण है। Vetek सेमीकंडक्टर एक अनुभवी निर्माता और सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक का आपूर्तिकर्ता है, और विभिन्न ग्राहकों की जरूरतों के अनुसार अत्यधिक अनुकूलित उत्पाद प्रदान कर सकता है।

अर्धचालक उत्पादन प्रक्रियाएं, विशेष रूप से वेफर प्रसंस्करण, एक वैक्यूम वातावरण में किए जाते हैं, और यंत्रवत् रूप से क्लैंपिंग वेफर्स कैरीज़ 

Ceramic Electrostatic Chuck

कुछ जोखिम। जब बल क्लैम्पिंग बिंदु पर केंद्रित होता है, तो भंगुर सिलिकॉन वेफर्स छोटे टुकड़े बहा सकते हैं, जिससे वेफर उत्पादन को गंभीर नुकसान होता है।


इस मामले में, सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक एक बेहतर विकल्प बन जाता है, जो इलेक्ट्रोस्टैटिक बल द्वारा वेफर को ठीक करता है। इलेक्ट्रोस्टैटिक बल समान रूप से वेफर पर काम करता है, इसलिए वेफर को सपाट रूप से तय किया जा सकता है, प्रक्रिया की सटीकता में सुधार किया जा सकता है।


प्रासंगिक शोध पत्रों के अनुसार, सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक में अन्य इलेक्ट्रोस्टैटिक चक की तुलना में मजबूत सक्शन होता है। उदाहरण के लिए, सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक में पालतू फिल्म इलेक्ट्रोस्टैटिक चक की तुलना में बहुत मजबूत सक्शन है।


Ceramic E-chuck Physical Propertiesसिरेमिक चक आमतौर पर उच्च प्रदर्शन वाली सिरेमिक सामग्री जैसे कि Al2O3, ALN या SIC से बना होता है, जिसमें उच्च गर्मी प्रतिरोध, इन्सुलेशन और संक्षारण प्रतिरोध होता है। झरझरा sic सिरेमिक चक न केवल अत्यधिक तापमान पर स्थिर है, बल्कि प्रभावी रूप से निर्माण प्रक्रिया के दौरान रासायनिक अभिकर्मकों और प्लाज्मा नक़्क़ाशी के कारण सिरेमिक ई-चक को गिरावट से रोकता है।


तापमान नियंत्रण: उच्च तापीय चालकता और सिरेमिक सामग्री के स्थिर थर्मल गुण एल्यूमिना सिरेमिक वैक्यूम चक को प्रभावी ढंग से तापमान को नियंत्रित करने में सक्षम बनाते हैं, जिससे प्रक्रिया के दौरान तापमान वितरण का अनुकूलन होता है।

Ceramic E-chuck working diagram



वैक्यूम अनुकूलनशीलता: सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक वैक्यूम वातावरण के लिए उपयुक्त है, विशेष रूप से कम दबाव और उच्च-सटीक नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं में।


कम कण पीढ़ी: झरझरा sic सिरेमिक ई-चक में एक चिकनी सतह होती है, जो वेफर फिक्सिंग के दौरान कण संदूषण को कम कर सकती है और उत्पाद की उपज में सुधार करने में मदद कर सकती है।


अनुप्रयोग: मुख्य रूप से अर्धचालक विनिर्माण में उपयोग किया जाता है, वियोज्य सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टैटिक चक सटीक स्थिति और स्थिरता प्रदान करता है, जो लिथोग्राफी, नक़्क़ाशी और अन्य अर्धचालक वेफर प्रसंस्करण निर्माण प्रक्रियाओं के लिए बहुत सहायक है। सुनिश्चित करें कि वेफर प्रसंस्करण के दौरान बरकरार है और चिप उत्पादन की गुणवत्ता में सुधार करता है।


यह अर्धचालकसिरेमिक ई-चक उत्पादन की दुकानें:


Semiconductor EquipmentGraphite epitaxial substrateGraphite ring assemblySemiconductor process equipment


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