एमओसीवीडी प्रौद्योगिकी

VeTek सेमीकंडक्टर के पास MOCVD टेक्नोलॉजी स्पेयर पार्ट्स में लाभ और अनुभव है।

एमओसीवीडी, मेटल-ऑर्गेनिक केमिकल वेपर डिपोजिशन (धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव) का पूरा नाम, इसे मेटल-ऑर्गेनिक वेपर फेज़ एपिटैक्सी भी कहा जा सकता है। ऑर्गेनोमेटैलिक यौगिक धातु-कार्बन बंध वाले यौगिकों का एक वर्ग है। इन यौगिकों में धातु और कार्बन परमाणु के बीच कम से कम एक रासायनिक बंधन होता है। धातु-कार्बनिक यौगिकों को अक्सर अग्रदूत के रूप में उपयोग किया जाता है और विभिन्न जमाव तकनीकों के माध्यम से सब्सट्रेट पर पतली फिल्म या नैनोस्ट्रक्चर बना सकते हैं।

धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (एमओसीवीडी तकनीक) एक सामान्य एपिटैक्सियल विकास तकनीक है, एमओसीवीडी तकनीक का व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर लेजर और एलईडी के निर्माण में उपयोग किया जाता है। विशेष रूप से जब एलईडी का निर्माण होता है, तो MOCVD गैलियम नाइट्राइड (GaN) और संबंधित सामग्रियों के उत्पादन के लिए एक प्रमुख तकनीक है।

एपिटैक्सी के दो मुख्य रूप हैं: तरल चरण एपिटैक्सी (एलपीई) और वाष्प चरण एपिटैक्सी (वीपीई)। गैस चरण एपिटैक्सी को आगे धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (एमओसीवीडी) और आणविक बीम एपिटैक्सी (एमबीई) में विभाजित किया जा सकता है।

विदेशी उपकरण निर्माताओं का प्रतिनिधित्व मुख्य रूप से ऐक्सट्रॉन और वीको द्वारा किया जाता है। एमओसीवीडी प्रणाली लेजर, एलईडी, फोटोइलेक्ट्रिक घटकों, बिजली, आरएफ उपकरणों और सौर कोशिकाओं के निर्माण के लिए प्रमुख उपकरणों में से एक है।

हमारी कंपनी द्वारा निर्मित MOCVD प्रौद्योगिकी स्पेयर पार्ट्स की मुख्य विशेषताएं:

1) उच्च घनत्व और पूर्ण एनकैप्सुलेशन: समग्र रूप से ग्रेफाइट बेस उच्च तापमान और संक्षारक कार्य वातावरण में है, सतह को पूरी तरह से लपेटा जाना चाहिए, और एक अच्छी सुरक्षात्मक भूमिका निभाने के लिए कोटिंग में अच्छा घनत्व होना चाहिए।

2) अच्छी सतह समतलता: क्योंकि एकल क्रिस्टल विकास के लिए उपयोग किए जाने वाले ग्रेफाइट बेस के लिए बहुत अधिक सतह समतलता की आवश्यकता होती है, कोटिंग तैयार होने के बाद आधार की मूल समतलता बनाए रखी जानी चाहिए, यानी कोटिंग परत एक समान होनी चाहिए।

3) अच्छी बॉन्डिंग ताकत: ग्रेफाइट बेस और कोटिंग सामग्री के बीच थर्मल विस्तार के गुणांक में अंतर को कम करें, जो प्रभावी रूप से दोनों के बीच बॉन्डिंग ताकत में सुधार कर सकता है, और उच्च और निम्न तापमान गर्मी का अनुभव करने के बाद कोटिंग को तोड़ना आसान नहीं है चक्र।

4) उच्च तापीय चालकता: उच्च गुणवत्ता वाली चिप वृद्धि के लिए ग्रेफाइट बेस को तीव्र और समान गर्मी प्रदान करने की आवश्यकता होती है, इसलिए कोटिंग सामग्री में उच्च तापीय चालकता होनी चाहिए।

5) उच्च गलनांक, उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध: कोटिंग उच्च तापमान और संक्षारक कार्य वातावरण में स्थिर रूप से काम करने में सक्षम होनी चाहिए।

4 इंच सब्सट्रेट रखें
बढ़ती एलईडी के लिए नीला-हरा एपिटैक्सी
प्रतिक्रिया कक्ष में रखा गया
वेफर के साथ सीधा संपर्क 4 इंच सब्सट्रेट रखें
यूवी एलईडी एपिटैक्सियल फिल्म को विकसित करने के लिए उपयोग किया जाता है
प्रतिक्रिया कक्ष में रखा गया
वेफर के साथ सीधा संपर्क वीको K868/वीको K700 मशीन
सफेद एलईडी एपिटैक्सी/नीला-हरा एलईडी एपिटैक्सी VEECO उपकरण में उपयोग किया जाता है
एमओसीवीडी एपिटैक्सी के लिए
SiC कोटिंग सुसेप्टर ऐक्सट्रॉन टीएस उपकरण
गहरी पराबैंगनी एपिटैक्सी
2 इंच सब्सट्रेट वीको उपकरण
लाल-पीली एलईडी एपिटैक्सी
4-इंच वेफर सब्सट्रेट TaC लेपित सुसेप्टर
(SiC Epi/UV LED रिसीवर) SiC लेपित सुसेप्टर
(ALD/Si Epi/LED MOCVD Susceptor)

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Sic कोटिंग ग्रेफाइट MoCVD हीटर

Vetek सेमीकंडक्टर SIC कोटिंग ग्रेफाइट MOCVD हीटर का उत्पादन करता है, जो MOCVD प्रक्रिया का एक प्रमुख घटक है। एक उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट सब्सट्रेट के आधार पर, सतह को उत्कृष्ट उच्च तापमान स्थिरता और संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करने के लिए एक उच्च शुद्धता वाले एसआईसी कोटिंग के साथ लेपित किया जाता है। उच्च गुणवत्ता और उच्च अनुकूलित उत्पाद सेवाओं के साथ, Vetek सेमीकंडक्टर की SIC कोटिंग ग्रेफाइट MoCVD हीटर MOCVD प्रक्रिया स्थिरता और पतली फिल्म जमाव की गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए एक आदर्श विकल्प है। वेटेक सेमीकंडक्टर आपके साथी बनने के लिए तत्पर है।

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सिलिकॉन कार्बाइड लेपित एपी ससेप्टर

VeTek सेमीकंडक्टर चीन में SiC कोटिंग उत्पादों का एक अग्रणी निर्माता और आपूर्तिकर्ता है। वीटेक सेमीकंडक्टर के सिलिकॉन कार्बाइड लेपित एपी ससेप्टर में उद्योग का शीर्ष गुणवत्ता स्तर है, यह एपिटैक्सियल ग्रोथ फर्नेस की कई शैलियों के लिए उपयुक्त है, और अत्यधिक अनुकूलित उत्पाद सेवाएं प्रदान करता है। VeTek सेमीकंडक्टर चीन में आपका दीर्घकालिक भागीदार बनने के लिए तत्पर है।

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MOCVD के लिए Sic कोटेड सैटेलाइट कवर

MOCVD के लिए SIC लेपित उपग्रह कवर अपने अत्यधिक उच्च तापमान प्रतिरोध, उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और बकाया ऑक्सीकरण प्रतिरोध के कारण वेफर्स पर उच्च गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल विकास को सुनिश्चित करने में एक अपूरणीय भूमिका निभाता है।

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Cvd sic लेपित वेफर बैरल धारक

CVD SIC कोटेड वेफर बैरल धारक एपिटैक्सियल ग्रोथ भट्टी का प्रमुख घटक है, जिसका उपयोग व्यापक रूप से MOCVD एपिटैक्सियल ग्रोथ भट्टियों में किया जाता है। Vetek सेमीकंडक्टर आपको अत्यधिक अनुकूलित उत्पाद प्रदान करता है। कोई फर्क नहीं पड़ता कि सीवीडी एसआईसी कोटेड वेफर बैरल धारक के लिए आपकी आवश्यकताएं क्या हैं, हमसे परामर्श करने के लिए आपका स्वागत है।

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सीवीडी एसआईसी कोटिंग वेफर एपि सूसोसेप्टर

वेटेक सेमीकंडक्टर सीवीडी एसआईसी कोटिंग वेफर एपि सूसोसेप्टर एसआईसी एपिटैक्सी ग्रोथ के लिए एक अपरिहार्य घटक है, जो बेहतर थर्मल प्रबंधन, रासायनिक प्रतिरोध और आयामी स्थिरता की पेशकश करता है। Vetek सेमीकंडक्टर के CVD SIC कोटिंग वेफर EPI Soucceptor का चयन करके, आप अपनी MOCVD प्रक्रियाओं के प्रदर्शन को बढ़ाते हैं, जिससे उच्च गुणवत्ता वाले उत्पादों और आपके अर्धचालक विनिर्माण संचालन में अधिक दक्षता होती है। आपकी आगे की पूछताछ में आपका स्वागत है।

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सीवीडी एसआईसी कोटिंग ग्रेफाइट सस्पेक्टर

Vetek सेमीकंडक्टर CVD SIC कोटिंग ग्रेफाइट सूसोसेप्टर अर्धचालक उद्योग में महत्वपूर्ण घटकों में से एक है जैसे कि एपिटैक्सियल ग्रोथ और वेफर प्रोसेसिंग। इसका उपयोग MOCVD और अन्य उपकरणों में किया जाता है ताकि वेफर्स और अन्य उच्च-सटीक सामग्रियों के प्रसंस्करण और हैंडलिंग का समर्थन किया जा सके। Vetek सेमीकंडक्टर के पास चीन के प्रमुख SIC लेपित ग्रेफाइट सूसोसेप्टर और TAC लेपित ग्रेफाइट सूसोसेप्टर उत्पादन और विनिर्माण क्षमताओं के पास है, और आपके परामर्श के लिए तत्पर है।

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चीन में एक पेशेवर एमओसीवीडी प्रौद्योगिकी निर्माता और आपूर्तिकर्ता के रूप में, हमारा अपना कारखाना है। चाहे आपको अपने क्षेत्र की विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित सेवाओं की आवश्यकता हो या चीन में उन्नत और टिकाऊ एमओसीवीडी प्रौद्योगिकी खरीदना चाहते हो, आप हमें एक संदेश छोड़ सकते हैं।