SiC एपिटैक्सी प्रक्रिया

टैंटलम कार्बाइड लेपित झरझरा ग्रेफाइट अर्धचालक प्रसंस्करण प्रक्रिया में एक अपरिहार्य उत्पाद है, विशेष रूप से एसआईसी क्रिस्टल विकास प्रक्रिया में। निरंतर आर एंड डी निवेश और प्रौद्योगिकी उन्नयन के बाद, वेटेक सेमीकंडक्टर के टीएसी लेपित झरझरा ग्रेफाइट उत्पाद गुणवत्ता ने यूरोपीय और अमेरिकी ग्राहकों से उच्च प्रशंसा जीती है। आपके आगे के परामर्श में आपका स्वागत है।

CVD TAC कोटिंग प्लैनेटरी SIC एपिटैक्सियल सूसोसेप्टर MOCVD प्लैनेटरी रिएक्टर के मुख्य घटकों में से एक है। सीवीडी टीएसी कोटिंग प्लैनेटरी एसआईसी एपिटैक्सियल सूसोसेप्टर के माध्यम से, बड़ी डिस्क ऑर्बिट्स और छोटी डिस्क घूमती है, और क्षैतिज प्रवाह मॉडल को मल्टी-चिप मशीनों तक बढ़ाया जाता है, ताकि इसमें उच्च-गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल वेवलेंथ मैनेजमेंट और सिंगल ऑप्टिमाइज़ेशन दोनों हैं। -चिप मशीनों और मल्टी-चिप मशीनों के उत्पादन लागत लाभ। यदि आप भी Aixtron की तरह एक ग्रह mocvd भट्ठी बनाना चाहते हैं, तो हमारे पास आओ!

Vetek सेमीकंडक्टर एक चीनी कंपनी है जो एक विश्व स्तरीय निर्माता और GAN एपिटैक्सी सूसोसेप्टर का आपूर्तिकर्ता है। हम सेमीकंडक्टर उद्योग में काम कर रहे हैं जैसे कि सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग्स और जीएएन एपिटैक्सी सूसोसेप्टर लंबे समय से। हम आपको उत्कृष्ट उत्पाद और अनुकूल कीमतें प्रदान कर सकते हैं। वेटेक सेमीकंडक्टर आपके दीर्घकालिक साथी बनने के लिए तत्पर है।

वीटेक सेमीकंडक्टर टीएसी कोटेड वेफर ससेप्टर वेफर की गुणवत्ता और प्रदर्शन में सुधार के लिए सिलिकॉन कार्बाइड एपिटैक्सियल विकास के लिए टैंटलम कार्बाइड के साथ लेपित एक ग्रेफाइट ट्रे है। VeTek को इसकी उन्नत कोटिंग तकनीक और टिकाऊ समाधानों के कारण चुना गया है ताकि उत्कृष्ट SiC एपिटैक्सी परिणाम और विस्तारित ससेप्टर जीवन सुनिश्चित किया जा सके, आपकी आगे की पूछताछ का स्वागत है।

चीन में टीएसी कोटिंग गाइड रिंग्स प्रोडक्ट्स के एक प्रमुख निर्माता के रूप में, वेटेक सेमीकंडक्टर टीएसी लेपित गाइड रिंग्स MOCVD उपकरणों में महत्वपूर्ण घटक हैं, जो एपिटैक्सियल ग्रोथ के दौरान सटीक और स्थिर गैस डिलीवरी सुनिश्चित करते हैं, और अर्धचालक एपिटैक्सियल ग्रोथ में एक अपरिहार्य सामग्री हैं। हमसे परामर्श करने के लिए आपका स्वागत है।

वेटेक सेमीकंडक्टर एक पेशेवर निर्माता और चीन में झरझरा टैंटलम कार्बाइड उत्पादों के नेता हैं। झरझरा टैंटलम कार्बाइड आमतौर पर रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) विधि द्वारा निर्मित होता है, जो इसके छिद्र आकार और वितरण का सटीक नियंत्रण सुनिश्चित करता है, और उच्च तापमान चरम वातावरण के लिए समर्पित एक सामग्री उपकरण है। अपने आगे के परामर्श का स्वागत करें।