सिलिकॉन कार्बाइड एपिटैक्सी

उच्च गुणवत्ता वाले सिलिकॉन कार्बाइड एपिटैक्सी की तैयारी उन्नत तकनीक और उपकरण और उपकरण सहायक उपकरण पर निर्भर करती है। वर्तमान में, सबसे व्यापक रूप से इस्तेमाल की जाने वाली सिलिकॉन कार्बाइड एपिटैक्सी वृद्धि विधि रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) है। इसमें एपिटैक्सियल फिल्म की मोटाई और डोपिंग एकाग्रता, कम दोष, मध्यम विकास दर, स्वचालित प्रक्रिया नियंत्रण आदि के सटीक नियंत्रण के फायदे हैं, और यह एक विश्वसनीय तकनीक है जिसे व्यावसायिक रूप से सफलतापूर्वक लागू किया गया है।

सिलिकॉन कार्बाइड सीवीडी एपिटैक्सी आमतौर पर गर्म दीवार या गर्म दीवार सीवीडी उपकरण को अपनाता है, जो विकास के वर्षों के बाद उच्च विकास तापमान स्थितियों (1500 ~ 1700 ℃), गर्म दीवार या गर्म दीवार सीवीडी के तहत एपिटैक्सी परत 4H क्रिस्टलीय SiC की निरंतरता सुनिश्चित करता है। इनलेट वायु प्रवाह दिशा और सब्सट्रेट सतह के बीच संबंध, प्रतिक्रिया कक्ष को क्षैतिज संरचना रिएक्टर और ऊर्ध्वाधर संरचना रिएक्टर में विभाजित किया जा सकता है।

एसआईसी एपिटैक्सियल फर्नेस की गुणवत्ता के लिए तीन मुख्य संकेतक हैं, पहला एपिटैक्सियल विकास प्रदर्शन है, जिसमें मोटाई एकरूपता, डोपिंग एकरूपता, दोष दर और विकास दर शामिल है; दूसरा उपकरण का तापमान प्रदर्शन है, जिसमें ताप/शीतलन दर, अधिकतम तापमान, तापमान एकरूपता शामिल है; अंत में, उपकरण का लागत प्रदर्शन, जिसमें एक इकाई की कीमत और क्षमता भी शामिल है।

तीन प्रकार के सिलिकॉन कार्बाइड एपिटैक्सियल ग्रोथ फर्नेस और कोर सहायक उपकरण अंतर

हॉट वॉल हॉरिजॉन्टल CVD (LPE कंपनी का विशिष्ट मॉडल PE1O6), वॉर्म वॉल प्लैनेटरी CVD (विशिष्ट मॉडल Aixtron G5WWC/G10) और अर्ध-हॉट वॉल CVD (न्यूफ्लेयर कंपनी के EPIREVOS6 द्वारा प्रस्तुत) मुख्यधारा के एपिटैक्सियल उपकरण तकनीकी समाधान हैं जिन्हें साकार किया गया है। इस स्तर पर व्यावसायिक अनुप्रयोगों में। तीन तकनीकी उपकरणों की भी अपनी-अपनी विशेषताएं हैं और इन्हें मांग के अनुसार चुना जा सकता है। उनकी संरचना इस प्रकार दिखाई गई है:

संबंधित मुख्य घटक इस प्रकार हैं:

(ए) गर्म दीवार क्षैतिज प्रकार का मुख्य भाग- हाफमून भाग से बना होता है

डाउनस्ट्रीम इन्सुलेशन

मुख्य इन्सुलेशन ऊपरी

ऊपरी अर्धचंद्र

अपस्ट्रीम इन्सुलेशन

संक्रमण टुकड़ा 2

संक्रमण टुकड़ा 1

बाहरी वायु नोजल

पतला स्नोर्कल

बाहरी आर्गन गैस नोजल

आर्गन गैस नोजल

वेफर सपोर्ट प्लेट

सेंटरिंग पिन

केंद्रीय रक्षक

डाउनस्ट्रीम बायां सुरक्षा कवच

डाउनस्ट्रीम दायां सुरक्षा कवर

अपस्ट्रीम बायाँ सुरक्षा कवर

अपस्ट्रीम दायां सुरक्षा कवर

बगल की दीवार

ग्रेफाइट की अंगूठी

सुरक्षात्मक लगा

सहायक महसूस हुआ

संपर्क ब्लॉक

गैस आउटलेट सिलेंडर

(बी) गर्म दीवार ग्रहीय प्रकार

SiC कोटिंग प्लैनेटरी डिस्क और TaC लेपित प्लैनेटरी डिस्क

(सी)अर्ध-थर्मल दीवार खड़े प्रकार

नुफ्लेयर (जापान): यह कंपनी दोहरे कक्ष वाली ऊर्ध्वाधर भट्टियां प्रदान करती है जो उत्पादन उपज बढ़ाने में योगदान देती है। उपकरण में प्रति मिनट 1000 क्रांतियों तक की उच्च गति रोटेशन की सुविधा है, जो एपिटैक्सियल एकरूपता के लिए अत्यधिक फायदेमंद है। इसके अतिरिक्त, इसके वायु प्रवाह की दिशा अन्य उपकरणों से भिन्न होती है, जो लंबवत रूप से नीचे की ओर होती है, इस प्रकार कणों की उत्पत्ति कम हो जाती है और कण की बूंदों के वेफर्स पर गिरने की संभावना कम हो जाती है। हम इस उपकरण के लिए कोर SiC लेपित ग्रेफाइट घटक प्रदान करते हैं।

SiC एपिटैक्सियल उपकरण घटकों के आपूर्तिकर्ता के रूप में, VeTek सेमीकंडक्टर SiC एपिटैक्सिअल उपकरण घटकों के सफल कार्यान्वयन का समर्थन करने के लिए ग्राहकों को उच्च गुणवत्ता वाले कोटिंग घटक प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध है।

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Sic लेपित वेफर धारक

वेटेक सेमीकंडक्टर एक पेशेवर निर्माता और चीन में एसआईसी कोटेड वेफर धारक उत्पादों के नेता हैं। SIC कोटेड वेफर धारक अर्धचालक प्रसंस्करण में एपिटैक्सी प्रक्रिया के लिए एक वेफर धारक है। यह एक अपूरणीय उपकरण है जो वेफर को स्थिर करता है और एपिटैक्सियल परत की समान वृद्धि सुनिश्चित करता है। अपने आगे के परामर्श का स्वागत करें।

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एपि वेफर धारक

वेटेक सेमीकंडक्टर एक पेशेवर ईपीआई वेफर धारक निर्माता और चीन में कारखाना है। एपि वेफर धारक अर्धचालक प्रसंस्करण में एपिटैक्सी प्रक्रिया के लिए एक वेफर धारक है। यह वेफर को स्थिर करने और एपिटैक्सियल परत की समान वृद्धि सुनिश्चित करने के लिए एक महत्वपूर्ण उपकरण है। यह व्यापक रूप से MOCVD और LPCVD जैसे एपिटैक्सी उपकरणों में उपयोग किया जाता है। यह एपिटैक्सी प्रक्रिया में एक अपूरणीय उपकरण है। अपने आगे के परामर्श का स्वागत करें।

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ऐक्सट्रॉन सैटेलाइट वेफर वाहक

Vetek सेमीकंडक्टर का Aixtron सैटेलाइट वेफर वाहक एक वेफर वाहक है जिसका उपयोग Aixtron उपकरण में किया जाता है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से MOCVD प्रक्रियाओं में किया जाता है, और विशेष रूप से उच्च तापमान और उच्च-सटीक अर्धचालक प्रसंस्करण प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है। वाहक MOCVD एपिटैक्सियल ग्रोथ के दौरान स्थिर वेफर सपोर्ट और यूनिफ़ॉर्म फिल्म बयान प्रदान कर सकता है, जो परत जमाव प्रक्रिया के लिए आवश्यक है। अपने आगे के परामर्श का स्वागत करें।

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LPE Halfmoon Sic Epi रिएक्टर

वेटेक सेमीकंडक्टर एक पेशेवर एलपीई हाफमून एसआईसी ईपीआई रिएक्टर उत्पाद निर्माता, चीन में प्रर्वतक और नेता है। LPE HALFMOON SIC EPI रिएक्टर एक उपकरण है जो विशेष रूप से उच्च गुणवत्ता वाले सिलिकॉन कार्बाइड (SIC) एपिटैक्सियल लेयर्स के उत्पादन के लिए डिज़ाइन किया गया है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से अर्धचालक उद्योग में किया जाता है। आपकी आगे की पूछताछ में आपका स्वागत है।

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Cvd sic लेपित छत

वेटेक सेमीकंडक्टर की सीवीडी एसआईसी कोटेड सीलिंग में उच्च तापमान प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, उच्च कठोरता और कम थर्मल विस्तार गुणांक जैसे उत्कृष्ट गुण होते हैं, जिससे यह अर्धचालक विनिर्माण में एक आदर्श सामग्री विकल्प बन जाता है। एक चीन के रूप में सीवीडी एसआईसी कोटेड सीलिंग निर्माता और आपूर्तिकर्ता के रूप में, वेटेक सेमीकंडक्टर आपके परामर्श के लिए तत्पर है।

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सीवीडी एसआईसी ग्रेफाइट सिलेंडर

वेटेक सेमीकंडक्टर का सीवीडी एसआईसी ग्रेफाइट सिलेंडर अर्धचालक उपकरणों में महत्वपूर्ण है, उच्च तापमान और दबाव सेटिंग्स में आंतरिक घटकों की सुरक्षा के लिए रिएक्टरों के भीतर एक सुरक्षात्मक ढाल के रूप में सेवा करता है। यह प्रभावी रूप से रसायनों और अत्यधिक गर्मी के खिलाफ ढालता है, उपकरण अखंडता को संरक्षित करता है। असाधारण पहनने और संक्षारण प्रतिरोध के साथ, यह चुनौतीपूर्ण वातावरण में दीर्घायु और स्थिरता सुनिश्चित करता है। इन कवरों का उपयोग करके अर्धचालक डिवाइस प्रदर्शन को बढ़ाता है, जीवनकाल को बढ़ाता है, और रखरखाव की आवश्यकताओं को कम करता है और जोखिम को नुकसान पहुंचाता है।

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चीन में एक पेशेवर सिलिकॉन कार्बाइड एपिटैक्सी निर्माता और आपूर्तिकर्ता के रूप में, हमारा अपना कारखाना है। चाहे आपको अपने क्षेत्र की विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित सेवाओं की आवश्यकता हो या चीन में उन्नत और टिकाऊ सिलिकॉन कार्बाइड एपिटैक्सी खरीदना चाहते हो, आप हमें एक संदेश छोड़ सकते हैं।